ポジ型レジスト組成物およびパターン形成方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：西義之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999338701
Publication number (International publication number)：2001154362
Application date： Nov. 29, 1999
Publication date： Jun. 08, 2001
Summary：

【要約】【課題】酸の作用によりアルカリ性水溶液に対する溶解性が変化するアクリル系樹脂および酸発生剤を含有するポジ型レジスト組成物において、真空紫外領域のレーザー光に使用するポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】アクリル系樹脂として、構成単位として、フッ素原子を有する基をエステル部位とするアクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステル単位を含む重合体を使用する。

Claim (excerpt)：

酸の作用によりアルカリ性水溶液に対する溶解性が変化するアクリル系樹脂および酸発生剤を含有するポジ型レジスト組成物において、アクリル系樹脂が、構成単位として、フッ素原子を有する基をエステル部位とするアクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステル単位を含む重合体であることを特徴とする真空紫外領域のレーザー用ポジ型レジスト組成物。

IPC (3)：

G03F 7/039 601 , C08F220/22 , H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/039 601 , C08F220/22 , H01L 21/30 502 R

F-Term (30)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC05 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 2H025CC03 , 2H025FA17 , 4J100AC27Q , 4J100AC43Q , 4J100AL03Q , 4J100AL04Q , 4J100AL08P , 4J100AL46Q , 4J100AM15Q , 4J100BB07P , 4J100BB17P , 4J100BB17Q , 4J100BC04P , 4J100BC43P , 4J100CA01 , 4J100CA04 , 4J100DA01 , 4J100FA03

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (8)

レジスト溶液およびその調製方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-034900 Applicant：日本ゼオン株式会社
化学増幅型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-332641 Applicant：住友化学工業株式会社
感光性組成物およびこれを用いたパタン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-110706 Applicant：株式会社東芝

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Cited by examiner (8)

感光性組成物およびこれを用いたパタン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-110706 Applicant：株式会社東芝
レジスト溶液およびその調製方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-034900 Applicant：日本ゼオン株式会社
新規なコポリマーとコポリマー樹脂バインダー成分からなるフォトレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-188849 Applicant：シップレーカンパニーエルエルシー

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