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J-GLOBAL ID:200903069069853230
記憶素子及びメモリ
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
角田 芳末
, 磯山 弘信
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005116127
Publication number (International publication number):2006295000
Application date: Apr. 13, 2005
Publication date: Oct. 26, 2006
Summary:
【課題】 スピン注入効率を向上することにより、書き込みに要する電流値を低減することができる記憶素子を提供する。【解決手段】 情報を磁性体の磁化状態により保持する記憶層17に対して、中間層16を介して磁化固定層31が設けられ、中間層16が酸化マグネシウムから成り、積層方向に電流を流すことにより記憶層17の磁化M1の向きが変化して、記憶層17に対して情報の記録が行われ、記憶層17又は磁化固定層31を構成する強磁性層17,13,15のうち少なくとも一層がNiFeBを主成分として成り、Niの含有量が50原子%以上80原子%以下であり、Bの含有量が10原子%以上30原子%以下である記憶素子3を構成する。【選択図】 図2
Claim (excerpt):
情報を磁性体の磁化状態により保持する記憶層を有し、
前記記憶層に対して、中間層を介して磁化固定層が設けられ、
前記中間層が、酸化マグネシウムから成り、
積層方向に電流を流すことにより、前記記憶層の磁化の向きが変化して、前記記憶層に対して情報の記録が行われ、
前記記憶層又は前記磁化固定層を構成する強磁性層のうち少なくとも一層がNiFeBを主成分として成り、Niの含有量が50原子%以上80原子%以下であり、Bの含有量が10原子%以上30原子%以下である
ことを特徴とする記憶素子。
IPC (4):
H01L 43/08
, H01L 27/105
, H01L 21/824
, H01L 43/10
FI (3):
H01L43/08 Z
, H01L27/10 447
, H01L43/10
F-Term (8):
5F083FZ10
, 5F083JA02
, 5F083JA37
, 5F083JA38
, 5F083JA60
, 5F083KA01
, 5F083KA05
, 5F083PR33
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
Cited by examiner (4)
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磁気抵抗効果素子および磁気メモリ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-203783
Applicant:株式会社東芝
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磁気抵抗効果素子および磁気メモリ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-339978
Applicant:株式会社東芝
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スピンバルブ型薄膜素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-286893
Applicant:アルプス電気株式会社
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磁気センサ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-115238
Applicant:日立金属株式会社
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