観察装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：古谷史旺
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003150429
Publication number (International publication number)：2004354556
Application date： May. 28, 2003
Publication date： Dec. 16, 2004
Summary：

【課題】連続的な試料観察の単位時間当たりの処理能力を高める。【解決手段】試料表面(10A-i)の観察ポイントの拡大像を生成するための対物レンズと、対物レンズの光軸の垂直方向に試料と対物レンズとを相対移動させる水平移動機構と、対物レンズの光軸方向に試料と対物レンズとを相対移動させる垂直移動機構とを備えた観察装置において、少なくとも対物レンズと試料表面とが対向する範囲内での水平移動機構の駆動中に、予め測定された試料表面の起伏((a),(b))に応じた駆動パターン(c)で垂直移動機構を駆動することを特徴とする。このようにすれば、観察ポイントの移動時におけるウエハ10A-iのZ方向の移動量は、その起伏の範囲内に抑えることができる。その結果、連続的な観察の単位時間当たりの処理能力が高まる。【選択図】図6

Claim (excerpt)：

試料表面の観察ポイントの拡大像を生成するための対物レンズと、前記対物レンズの光軸に直交する方向に前記試料と前記対物レンズとを相対移動させる水平移動機構と、前記対物レンズの光軸方向に前記試料と前記対物レンズとを相対移動させる垂直移動機構と、少なくとも前記対物レンズと前記試料表面とが対向する範囲内での前記水平移動機構の駆動中に、予め測定された前記試料表面の起伏に応じた駆動パターンで前記垂直移動機構を駆動する制御手段とを備えたことを特徴とする観察装置。

IPC (6)：

G02B7/28 , G01B11/02 , G01N21/956 , G02B7/04 , G02B7/16 , G02B21/00

FI (7)：

G02B7/11 J , G01B11/02 Z , G01N21/956 A , G02B7/16 , G02B21/00 , G02B7/11 N , G02B7/04 C

F-Term (49)：

2F065AA02 , 2F065AA03 , 2F065AA06 , 2F065AA20 , 2F065AA24 , 2F065BB01 , 2F065CC19 , 2F065DD06 , 2F065FF10 , 2F065GG21 , 2F065HH13 , 2F065JJ03 , 2F065JJ05 , 2F065JJ09 , 2F065LL00 , 2F065LL05 , 2F065LL46 , 2F065NN20 , 2F065PP02 , 2F065PP12 , 2F065PP13 , 2F065PP24 , 2F065QQ00 , 2F065QQ17 , 2G051AA51 , 2G051AB02 , 2G051CA04 , 2G051CB01 , 2G051CD07 , 2G051DA03 , 2G051DA07 , 2G051ED15 , 2H044BB05 , 2H044BB07 , 2H044HC02 , 2H044HC04 , 2H051AA11 , 2H051BA52 , 2H051BA70 , 2H051CC03 , 2H051DA07 , 2H051DA19 , 2H051DD20 , 2H051FA47 , 2H052AD09 , 2H052AD20 , 2H052AF02 , 2H052AF21 , 2H052AF25

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

合焦装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-266623 Applicant：オリンパス光学工業株式会社
表面画像投影装置及び方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-096466 Applicant：株式会社東京精密
EBテスタ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-190411 Applicant：株式会社アドバンテスト

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