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J-GLOBAL ID：200903069693705296

有機EL素子およびその製造方法

Inventor：
五藤 智久

About 五藤 智久

, 
小田 敦

About 小田 敦


Applicant, Patent owner：
日本電気株式会社

About 日本電気株式会社


Agent (1)： 稲垣 清
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001362684
Publication number (International publication number)：2003163075
Application date： Nov. 28, 2001
Publication date： Jun. 06, 2003
Summary：
【要約】【課題】 高精細かつ高輝度の有機EL素子構造およびその製造方法を提供する。【解決手段】 1層または複数層の有機薄膜層を陽極30および陰極50で挟持してなり、かつ回折格子を含む有機EL素子であって、各発光画素に配置された該回折格子の面積が発光画素の面積よりも大きいことを特徴とする。また、1層または複数層の有機薄膜層を陽極30および陰極50で挟持してなり、かつ回折格子を含む有機EL素子の製造方法において、基板内の回折格子の位置や大きさを決めるフォトマスクを感光性材料の表面でレーザー非干渉露光部分を形成しない位置に設置する工程と、二光束レーザー干渉露光系により前記感光性材料を露光する工程と、前記基板または前記基板上に形成された薄膜をエッチングすることにより回折格子とする工程と、を備えることを特徴とする。
Claim (excerpt)：
1層または複数層の有機薄膜層を陽極および陰極で挟持してなり、かつ回折格子を含む有機EL素子において、各発光画素に配置された該回折格子の面積が発光画素の面積よりも大きいことを特徴とする有機EL素子。
IPC (3)：
H05B 33/02 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14
FI (3)：
H05B 33/02 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14 A
F-Term (5)：
3K007AB03 ,  3K007AB18 ,  3K007BB06 ,  3K007DB03 ,  3K007FA00
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (10)
  • 表示装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-092239   Applicant：セイコーエプソン株式会社
  • EL装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-358613   Applicant：セイコーエプソン株式会社
  • 特開平3-138893
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