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J-GLOBAL ID：200903069898354631

X線発生装置

Inventor：
近藤 洋行

About 近藤 洋行


Applicant, Patent owner：
株式会社ニコン

About 株式会社ニコン


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000084941
Publication number (International publication number)：2001267096
Application date： Mar. 24, 2000
Publication date： Sep. 28, 2001
Summary：
【要約】【課題】 レーザ-プラズマを用いたX線光源や放電プラズマを用いたX線光源では標的材料や装置の一部の破片が後段の光学素子の表面に付着して光学特性を劣化させる。特に、X線縮小露光系の光源として用いる場合、フライアイに入射する光量分布が光軸に対して対称である必要性があるが、上述の劣化が軸対称でなくなる。本発明は、飛散粒子による光学素子の劣化を光軸に対称にすることを目的とする。【解決手段】 飛散粒子を受ける光学素子を光軸を中心として回転させるようにする。
Claim (excerpt)：
パルスレーザー光を減圧された容器中の標的材料に集光することにより該標的材料をプラズマ化し、該プラズマより輻射されるX線を利用するX線発生装置(以下では、レーザープラズマX線源,LPXと呼ぶ)あるいは放電により標的材料をプラズマ化し該プラズマより輻射されるX線を利用するX線発生装置(以下では、放電プラズマX線源と呼ぶ)に於いて、該プラズマから輻射されたX線が最初に入射する光学素子または該プラズマを含む真空容器内に置かれている光学素子が該光学素子の回転対称軸あるいはX線の光軸を中心に回転する機構を具備していることを特徴とするX線発生装置。
IPC (4)：
H05G 2/00 ,  G21K 1/00 ,  G21K 1/06 ,  G21K 5/02
FI (6)：
G21K 1/00 X ,  G21K 1/06 B ,  G21K 1/06 K ,  G21K 1/06 M ,  G21K 5/02 X ,  H05G 1/00 K
F-Term (8)：
4C092AA06 ,  4C092AA14 ,  4C092AB19 ,  4C092AC08 ,  4C092BE02 ,  4C092CC03 ,  4C092CE18 ,  4C092CF42
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (5)
  • 特開平2-005334
  • X線装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-305201   Applicant：株式会社ニコン
  • 微小領域平行光線照射装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-055752   Applicant：株式会社ニコン
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Cited by examiner (5)
  • 特開平2-005334
  • X線装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-305201   Applicant：株式会社ニコン
  • 微小領域平行光線照射装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-055752   Applicant：株式会社ニコン
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