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J-GLOBAL ID：200903070364541701

分析装置

Inventor：
永田 武史

About 永田 武史

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大嶋 正裕

About 大嶋 正裕

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渡 正博

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高橋 重男

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菅 章宏

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村井 正仁

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Applicant, Patent owner：
横河電機株式会社

About 横河電機株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001116867
Publication number (International publication number)：2002310907
Application date： Apr. 16, 2001
Publication date： Oct. 23, 2002
Summary：
【要約】【課題】 測定対象(プラスチック樹脂やプロセスガス等)に対して加熱したり、加圧した状態で測定可能であり、かつメンテナンス時にはプローブを取付けた状態でプローブ先端の洗浄が可能な分光分析装置を提供する。【解決手段】 貫通孔が形成された容器と、前記貫通孔内を所定の温度に加熱する手段と、前記貫通孔の途中に先端が対向して配置された一対のプローブと、前記貫通孔に連通するとともに前記プローブの先端を洗浄可能に形成された窓と、前記貫通孔を密閉空間とするための閉塞手段を設けた。また、密閉空間にガスを供給するガス供給手段を設け容器を覆う保温カバーを設けた。
Claim (excerpt)：
貫通孔が形成された容器と、前記貫通孔内を所定の温度に加熱する手段と、前記貫通孔の途中に先端が対向して配置された一対のプローブと、前記貫通孔に連通するとともに前記プローブの先端を洗浄可能に形成された窓と、前記貫通孔を密閉空間とするための閉塞手段を設けたことを特徴とする分析装置。
IPC (5)：
G01N 21/35 ,  G01J 3/02 ,  G01J 3/42 ,  G01N 21/01 ,  G01N 21/15
FI (5)：
G01N 21/35 Z ,  G01J 3/02 Z ,  G01J 3/42 U ,  G01N 21/01 C ,  G01N 21/15
F-Term (24)：
2G020AA03 ,  2G020BA02 ,  2G020BA05 ,  2G020BA12 ,  2G020BA16 ,  2G020CA02 ,  2G020CB07 ,  2G057AA01 ,  2G057AB02 ,  2G057AB06 ,  2G057AC01 ,  2G057AC03 ,  2G057EA06 ,  2G057JA00 ,  2G059AA01 ,  2G059BB01 ,  2G059BB04 ,  2G059BB09 ,  2G059DD16 ,  2G059EE01 ,  2G059EE12 ,  2G059HH01 ,  2G059JJ01 ,  2G059LL02
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (11)
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Article cited by the Patent：
Cited by examiner (1)

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