希ガスの回収方法及び装置

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：木戸一彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000289102
Publication number (International publication number)：2002097007
Application date： Sep. 22, 2000
Publication date： Apr. 02, 2002
Summary：

【要約】【課題】プラズマ装置等の希ガス使用設備から排出される希ガスを効率よく回収することができ、希ガス使用設備に対して所定純度の希ガスを安定して供給することができる希ガスの回収方法及び装置を提供する。【解決手段】減圧下で運転する希ガス使用設備から排出される排ガス中の希ガスを回収するにあたり、少なくとも2つ以上のガス分離手段によって前記排ガス中の希ガスと不純物とを分離回収する。

Claim (excerpt)：

減圧下で運転する希ガス使用設備から排出される排ガス中の希ガスを回収するにあたり、少なくとも2つ以上のガス分離工程によって前記排ガス中の希ガスと不純物とを分離して希ガスを回収することを特徴とする希ガスの回収方法。

IPC (3)：

C01B 23/00 , B01D 53/04 , B01D 53/22

FI (3)：

C01B 23/00 M , B01D 53/04 B , B01D 53/22

F-Term (22)：

4D006GA41 , 4D006JA52Z , 4D006JA57Z , 4D006JA58Z , 4D006KA52 , 4D006KA63 , 4D006KB12 , 4D006KE06P , 4D006KE13Q , 4D006MB06 , 4D006MC03X , 4D006PA04 , 4D006PB70 , 4D006PC01 , 4D012CA20 , 4D012CB16 , 4D012CD07 , 4D012CE02 , 4D012CF03 , 4D012CF05 , 4D012CH08 , 4D012CJ04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (12)

希ガスの回収方法及び装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-330228 Applicant：日本酸素株式会社, 大見忠弘
特開昭63-126522
光ファイバ製造のためのヘリウムの回収
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-213921 Applicant：プラクスエア・テクノロジー・インコーポレイテッド

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