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J-GLOBAL ID：200903070728754293

マイクロナノバブル発生方法、マイクロ流路の洗浄方法、マイクロナノバブル発生システム、及び、マイクロリアクター

Inventor： 田畑 和章 ,  三上 正人 ,  廣田 匡紀
Applicant, Patent owner： 富士ゼロックス株式会社
Agent (1)： 野口 恭弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007275991
Publication number (International publication number)：2009101299
Application date： Oct. 24, 2007
Publication date： May. 14, 2009
Summary：

【課題】新規なマイクロナノバブル発生方法、マイクロナノバブル発生システム及び前記マイクロナノバブル発生システムを有するマイクロリアクターを提供すること。また、洗浄性及び/又は殺菌性に優れたマイクロ流路の洗浄方法を提供すること。【解決手段】マイクロ流路内に液体を導入する工程、及び、マイクロ流路壁の全部又は一部に形成された半径10〜1,000nmの貫通孔を有する多孔壁の外部から、加圧ガス供給手段によりマイクロ流路内にガスを供給することにより、前記液体にマイクロナノバブルを含有させる工程を含むことを特徴とするマイクロナノバブル発生方法。【選択図】図5

Claim (excerpt)：

マイクロ流路内に液体を導入する工程、及び、 マイクロ流路壁の全部又は一部に形成された半径10〜1,000nmの貫通孔を有する多孔壁の外部から、加圧ガス供給手段によりマイクロ流路内に直接ガスを供給することにより、前記液体にマイクロナノバブルを含有させる工程を含むことを特徴とする マイクロナノバブル発生方法。

IPC (8)：

B01F 3/04 ,  B01F 5/06 ,  B01F 11/02 ,  B01J 19/00 ,  B08B 3/08 ,  B08B 9/027 ,  B08B 3/12 ,  A61L 2/02

FI (8)：

B01F3/04 E ,  B01F5/06 ,  B01F11/02 ,  B01J19/00 321 ,  B08B3/08 A ,  B08B9/06 ,  B08B3/12 Z ,  A61L2/02 Z

F-Term (38)：

3B116AA12 ,  3B116AA47 ,  3B116BB21 ,  3B116BB62 ,  3B116BB83 ,  3B116BB88 ,  3B116BB90 ,  3B201AA12 ,  3B201AA47 ,  3B201BB21 ,  3B201BB62 ,  3B201BB83 ,  3B201BB88 ,  3B201BB90 ,  3B201BB92 ,  3B201BB95 ,  3B201BB96 ,  3B201BB98 ,  4C058AA30 ,  4C058BB02 ,  4C058BB07 ,  4C058JJ14 ,  4C058KK07 ,  4G035AB29 ,  4G035AC26 ,  4G036AB23 ,  4G075AA03 ,  4G075AA27 ,  4G075AA39 ,  4G075AA57 ,  4G075BA10 ,  4G075BC10 ,  4G075BD27 ,  4G075DA02 ,  4G075EB01 ,  4G075EE03 ,  4G075EE12 ,  4G075FB02

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

• 超微細気泡の混在するリアクター用気液混合溶液と、その製造方法と、ケミカルリアクター装置と、バイオリアクター装置。
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-394010   Applicant：高橋幸司, 吾郷健一, 日東ベスト株式会社, 株式会社ニクニ
• マイクロバブル発生装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-364304   Applicant：三洋電機株式会社
• 超微細気泡の生成方法、生成装置及びそれを利用した殺菌・消毒設備
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2005-097907   Applicant：株式会社日立製作所
• マイクロ化学デバイスの洗浄方法とそれを用いた光学活性エポキシドの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-388864   Applicant：日本化薬株式会社

Cited by examiner (6)

• 酸素ナノバブル水およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-062160   Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所, 株式会社REO研究所
• マイクロ化学チップ
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2007-160545   Applicant：京セラ株式会社
• プラントの洗浄方法および運転方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2005-300383   Applicant：株式会社東芝
• 特公平6-037291
  
• 特許第3418727号
  
• マイクロチャネルプロセス技術を用いる多相混合プロセス
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2007-534825   Applicant：ヴェロシス,インク.