InPウエハの研磨液とInPウエハの研磨方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：川瀬茂樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002373466
Publication number (International publication number)：2004207417
Application date： Dec. 25, 2002
Publication date： Jul. 22, 2004
Summary：

【課題】臭素を用いることなく表面にスクラッチが入らず、しかも研磨速度が速いInPウエハ一次研磨用の研磨液を提供すること。【解決手段】粒径Dは10nm〜300nmであって表面突起の高さの最大値が5nm以上であるコロイダルシリカと、塩素化イソシアヌール酸だけを含み、硫酸ナトリウムや塩化カリウムを含まない研磨液。純水に対する割合は、コロイダルシリカ液が5%〜20%であり、コロイダルシリカ重量を1として、塩素化イソシアヌール酸の重量比は0.5〜1.5である。コロイダルシリカのpHは7〜14であり特に8〜11が望ましい。【選択図】図5

Claim (excerpt)：

粒径が10nm〜300nmであって5nm以上の高さの突起を持つコロイダルシリカと、塩素化イソシアヌール酸を含み、1.0重量%以下の硫酸ナトリウムと1.0重量%以下の塩化カリウムを含むことを特徴とするInPウエハの研磨液。

IPC (3)：

H01L21/304 , B24B37/00 , C09K3/14

FI (5)：

H01L21/304 622D , H01L21/304 622W , B24B37/00 H , C09K3/14 550D , C09K3/14 550Z

F-Term (4)：

3C058AA07 , 3C058AC04 , 3C058CB01 , 3C058DA17

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

第III-V族化合物半導体の研磨剤とその供給方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-104092 Applicant：住友電気工業株式会社
二次凝集コロイダルシリカとその製造方法及びそれを用いた研磨剤組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-148974 Applicant：日本化学工業株式会社
研磨組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-344898 Applicant：シンバイオス・ロジック・インコーポレイテッド

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