Pat
J-GLOBAL ID:200903071007489048

全反射プリズム及びそれを用いた全反射装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 岩橋 祐司
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002257889
Publication number (International publication number):2004093495
Application date: Sep. 03, 2002
Publication date: Mar. 25, 2004
Summary:
【課題】本発明の目的は、全反射測定における集光効率の向上を図ることのできる全反射プリズムを提供することにある。【解決手段】サンプル32に当接される試料面36を含む当接部38と、試料面36とサンプル32との当接面への入射角が臨界角以上の入射光30が入光され、その当接面よりの全反射光34が出光される入光及び出光面40を含む入出光部42と、を備え、当接部38は、サンプル32に比較し硬く屈折率の高い材質で構成され、入出光部42との接触部位が断面逆三角形に形成され、入出光部42は、透過波長範囲が長い材質で構成され、当接部38との接触部位が前記逆三角形にぴったり密着する形状の凹部が形成されており、当接部38と入出光部42がぴったり密着されていることを特徴とする全反射プリズム22。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
サンプルに当接される試料面と、 前記試料面と前記サンプルとの当接面への入射角が臨界角以上となる入射光が入光され、その当接面よりの全反射光が出光される入光及び出光面と、 を備えた全反射プリズムにおいて、 前記試料面を含む当接部と、前記入光及び出光面を含む入出光部と、を備え、 前記当接部は、前記サンプルに比較し硬く、光屈折率の高い材質で構成され、前記入出光部との接触部位が断面逆三角形に形成され、 前記入出光部は、透過波長範囲が長い材質で構成され、前記当接部との接触部位が前記逆三角形にぴったり密着する形状の凹部が形成されており、 前記当接部と前記入出光部がぴったり密着されていることを特徴とする全反射プリズム。
IPC (3):
G01N21/27 ,  G01N21/01 ,  G02B5/04
FI (3):
G01N21/27 C ,  G01N21/01 Z ,  G02B5/04 F
F-Term (11):
2G059AA01 ,  2G059BB04 ,  2G059DD13 ,  2G059EE01 ,  2G059EE02 ,  2G059EE10 ,  2G059HH01 ,  2G059JJ12 ,  2G059JJ14 ,  2H042CA01 ,  2H042CA17
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
Show all

Return to Previous Page