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J-GLOBAL ID:200903071134775874

半導体装置およびその作製方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000057344
Publication number (International publication number):2000353809
Application date: Mar. 02, 2000
Publication date: Dec. 19, 2000
Summary:
【要約】【課題】 動作性能および信頼性の高い半導体装置を提供する。【解決手段】 有機樹脂膜376上に、陽極酸化可能な材料からなる電極377、378と、その陽極酸化膜378と、その上の画素電極379〜382とで画素容量を形成する。この陽極酸化膜は、単位時間当たりの印加電圧が15V/minで陽極酸化され、電極配線の回り込みがないため、膜剥がれを防止できる。
Claim (excerpt):
有機樹脂膜上に第1の電極と、該第1の電極の表面の少なくとも一部に酸化膜と、該酸化膜の少なくとも一部を覆って第2の電極とからなる容量を備えていることを特徴とする半導体装置。
IPC (8):
H01L 29/786 ,  G02F 1/13 505 ,  G02F 1/1368 ,  G09F 9/30 338 ,  H01L 21/316 ,  H01L 21/3205 ,  H01L 27/04 ,  H01L 21/822
FI (8):
H01L 29/78 619 B ,  G02F 1/13 505 ,  G09F 9/30 338 ,  H01L 21/316 T ,  G02F 1/136 500 ,  H01L 21/88 S ,  H01L 27/04 C ,  H01L 29/78 612 A
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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