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J-GLOBAL ID:200903071454989023
高い強度及び耐破壊性を有するシルセスキオキサン樹脂並びにそれらの調製方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
石田 敬 (外4名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000201004
Publication number (International publication number):2001026717
Application date: Jul. 03, 2000
Publication date: Jan. 30, 2001
Summary:
【要約】【課題】 高い強度及び耐破壊性を有するシリコーン樹脂を提供すること。【解決手段】 (A)シルセスキオキサンコポリマー;(B)シリル末端炭化水素;並びに(C)ヒドロシリル化反応触媒;を含むヒドロシリル化反応硬化性組成物。
Claim (excerpt):
(A)実験式:R1 a R2 b R3 c SiO(4-a-b-c)/2 [式中、0.8≦(a+b+c)≦3.0であり、かつ、成分(A)がR1 基を1分子当たり平均して少なくとも2個有することを条件として、aは0又は正の数、bは0又は正の数、cは0又は正の数であり、各R1 は水素原子及び脂肪族不飽和を有する1価炭化水素基から独立に選ばれる官能基であり、各R2 は非官能性基及びR1 から選ばれる1価炭化水素基であり、各R3 は非官能性基及びR1 から選ばれる1価炭化水素基である]により表される単位を含むシルセスキオキサンコポリマー;(B)一般式:【化1】[式中、成分(A)中のR1 が水素原子である場合に成分(B)中のR1 は不飽和一価炭化水素基であり、かつ、成分(A)中のR1 が不飽和一価炭化水素基である場合に成分(B)中のR1 が水素原子であることを条件としてR1 及びR2は成分(A)に関する上記の通りであり、R4 は二価炭化水素基である]により表されるシリル末端炭化水素;並びに(C)ヒドロシリル化反応触媒;を含むヒドロシリル化反応硬化性組成物。
IPC (4):
C08L 83/07
, C08G 77/38
, C08L 83/05
, C08L 83:04
FI (3):
C08L 83/07
, C08G 77/38
, C08L 83/05
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (10)
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光フアイバ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-322534
Applicant:信越化学工業株式会社, 日立電線株式会社
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オルガノポリシロキサン組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-163116
Applicant:信越化学工業株式会社
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シリル化ポリメチルシルセスキオキサン、その製造方法、それを用いた組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-039473
Applicant:ダウコーニングアジア株式会社
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硬化性組成物及びそれを用いた成形体の作製方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-335637
Applicant:鐘淵化学工業株式会社
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ケイ素系化合物を主成分とする予備硬化物及びそれを用いた成形体の作製方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-030653
Applicant:鐘淵化学工業株式会社
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光学素子及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-099871
Applicant:ダウコーニングアジア株式会社
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光学素子用樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-083100
Applicant:ダウコーニングアジア株式会社
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特開昭54-130948
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特開昭54-130948
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硬化性組成物及びそれを用いた成形体の作製方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-268023
Applicant:鐘淵化学工業株式会社
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