Pat
J-GLOBAL ID:200903071799189550
洗浄方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (4):
小林 浩
, 片山 英二
, 小林 純子
, 古橋 伸茂
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004138389
Publication number (International publication number):2005319377
Application date: May. 07, 2004
Publication date: Nov. 17, 2005
Summary:
【課題】 従来の洗浄方法でも除去できない灰化物等の汚染物を除去できる高清浄度の洗浄方法の提供。 【解決手段】 固形炭酸粒子を被洗浄材に噴射することにより、前記被洗浄材上の付着物を除去した後に、炉内において前記被洗浄材を加熱冷却する加熱冷却工程を含む被洗浄材の洗浄方法であって、前記加熱冷却された被洗浄材を、比抵抗15MΩ以上の純水に浸漬する浸漬工程と、前記浸漬工程において、前記被洗浄材に超音波振動を与える超音波振動工程を含む洗浄方法であり、前記洗浄後に、50°C以上の窒素雰囲気下で前記被洗浄材を乾燥させる第1乾燥工程を含む洗浄方法。 【選択図】なし
Claim (excerpt):
固形炭酸粒子を被洗浄材に噴射して前記被洗浄材上の付着物を除去した後に、炉内において前記被洗浄材を加熱冷却する加熱冷却工程を含む洗浄方法であって、
前記加熱冷却工程後に、さらに前記被洗浄材の表面上の付着物を除去する付着物除去工程を含む洗浄方法。
IPC (6):
B08B7/04
, B08B3/04
, B08B3/12
, B08B7/00
, C04B41/91
, H01L21/304
FI (6):
B08B7/04 Z
, B08B3/04 Z
, B08B3/12 A
, B08B7/00
, C04B41/91 Z
, H01L21/304 648Z
F-Term (26):
3B116AA46
, 3B116AB01
, 3B116BA06
, 3B116BB02
, 3B116BB22
, 3B116BB82
, 3B116BB83
, 3B116BB88
, 3B116BB90
, 3B116BC01
, 3B116CC03
, 3B201AA46
, 3B201AB01
, 3B201BA06
, 3B201BB02
, 3B201BB04
, 3B201BB22
, 3B201BB82
, 3B201BB83
, 3B201BB88
, 3B201BB90
, 3B201BB93
, 3B201BB98
, 3B201BC01
, 3B201CB11
, 3B201CC12
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
-
半導体製造用部材の洗浄方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-175266
Applicant:東芝セラミックス株式会社
-
部品の洗浄方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-269250
Applicant:沖電気工業株式会社
-
半導体製造装置用セラミックス部材の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-168379
Applicant:住友金属工業株式会社
-
セラミックス部材の洗浄方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-330963
Applicant:株式会社シーティーエス
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Cited by examiner (5)
-
セラミックス部材の洗浄方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-330963
Applicant:株式会社シーティーエス
-
セラミック絶縁体の洗浄方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-388246
Applicant:孫正河
-
基板の支持固定具、及びこれを用いた基板表面の乾燥方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-283885
Applicant:エム・エフエスアイ株式会社
-
水系洗浄乾燥処理法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-243729
Applicant:日本化工機工業株式会社
-
光衝撃波による洗浄装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-157666
Applicant:浜松ホトニクス株式会社
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