マイクロレンズの製造方法、物品の製造方法、レジスト層の加工方法、および、マイクロレンズ

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：三品岩男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001300512
Publication number (International publication number)：2003107721
Application date： Sep. 28, 2001
Publication date： Apr. 09, 2003
Summary：

【要約】【課題】高解像度で所望の形状のマイクロレンズを製造することのできる方法を提供する。【解決手段】主平面方向に複数段階の透過率分布を有するグレースケールマスク50を通してレジスト層61を露光した後、現像することにより、所望のマイクロレンズに対応した立体形状に前記レジスト層を加工し、レジスト層をエッチングマスクとして、レンズ基材をエッチングする。露光工程は、予め定めた波長の光をグレースケールマスク50に照射し、グレースケールマスク50を透過した光を集光光学系102により集光してレジスト層61に照射する。露光の際、レジスト層61の上面を、集光光学系102の焦点面からデフォーカスする。デフォーカス量は、前ピン側の場合10μm以上、後ピン側の場合5μm以上である。

Claim (excerpt)：

複数段階の透過率分布を有するグレースケールマスクを通してレジスト層を露光する露光工程と、露光後の前記レジスト層を現像する現像工程と、前記露光および現像工程により所望のマイクロレンズに対応した立体形状に加工された前記レジスト層をエッチングマスクとして、レンズ基材をエッチングするエッチング工程とを含み、前記露光工程は、前記グレースケールマスクの投影像を投影光学系により前記レジスト層に照射し、該照射の際に前記レジスト層の上面を、前記投影光学系の焦点面から予め定めたデフォーカス量だけ前記投影光学系側または前記投影光学系から離れた側に配置したことを特徴とするマイクロレンズの製造方法。

IPC (5)：

G03F 7/20 501 , G02B 3/00 , G03F 1/08 , H01L 27/14 , H04N 5/335

FI (5)：

G03F 7/20 501 , G02B 3/00 , G03F 1/08 D , H04N 5/335 V , H01L 27/14 D

F-Term (20)：

2H095BB02 , 2H095BB32 , 2H095BB33 , 2H095BC09 , 2H097BA01 , 2H097BA02 , 2H097BA06 , 2H097BB01 , 2H097CA12 , 2H097FA02 , 2H097JA02 , 2H097JA03 , 2H097JA04 , 2H097LA15 , 4M118EA20 , 4M118GD06 , 4M118GD07 , 5C024CX37 , 5C024CY47 , 5C024EX43

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

特殊表面形状の創成方法及び光学素子
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-067262 Applicant：リコー光学株式会社
固体撮像素子の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-261926 Applicant：凸版印刷株式会社
接続孔の形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-130876 Applicant：日本電信電話株式会社

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