基板処理装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：井上俊夫 , 水野洋美
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004073138
Publication number (International publication number)：2004266283
Application date： Mar. 15, 2004
Publication date： Sep. 24, 2004
Summary：

【課題】カセットステーションと処理ステーションを接続し、基板カセットから取り出された基板を処理ステーション内の液処理ユニットにて液処理する基板処理装置、例えばレジストパターンを作る塗布、現像装置において、作業性の良い構成とすること。【解決手段】液処理を行う液処理ユニット3,7,8と、液処理に関連した熱処理を行う加熱ユニット及び冷却ユニットと、これらユニットに対して基板の受け渡しをする単一の主搬送手段4A,4B,4Cとを含んで単一のブロックB1,B2,B3を構成する。そして異なる液処理ごとに、例えば反射防止膜の形成処理、レジストの塗布処理及び現像処理の各液処理毎にブロックを構成し、それら複数個のブロックを並設する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

基板に対して一連の液処理と熱処理とを行う基板処理装置において、液処理を行う液処理ユニットと、前記液処理に関連した熱処理を行う熱処理ユニットと、前記液処理ユニットおよび前記熱処理ユニットに対して基板の受け渡しをする単一の主搬送手段とを含んで単一のブロックを構成し、異なる液処理ごとに構成された複数個のブロックを並設してあることを特徴とする基板処理装置。

IPC (2)：

H01L21/68 , H01L21/027

FI (2)：

H01L21/68 A , H01L21/30 562

F-Term (20)：

5F031CA02 , 5F031CA05 , 5F031FA01 , 5F031FA02 , 5F031FA11 , 5F031FA12 , 5F031FA15 , 5F031GA03 , 5F031GA49 , 5F031MA02 , 5F031MA06 , 5F031MA09 , 5F031MA23 , 5F031MA26 , 5F031PA04 , 5F031PA09 , 5F046JA22 , 5F046KA07 , 5F046LA11 , 5F046LA18

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

処理システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-257596 Applicant：東京エレクトロン株式会社
処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-212857 Applicant：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
基板処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-233600 Applicant：東京エレクトロン株式会社

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