Pat
J-GLOBAL ID:200903074000273367
ネガ型感放射線性樹脂組成物
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
大島 正孝
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001262027
Publication number (International publication number):2003076019
Application date: Aug. 30, 2001
Publication date: Mar. 14, 2003
Summary:
【要約】【課題】 通常濃度のアルカリ現像液に適用でき、かつ通常のライン・アンド・スペースパターンにおいて、高解像度で矩形のレジストパターンを形成することができ、現像後にレジストパターン欠陥(橋架け(ブリッジング)、欠け)がなく、感度、現像性、寸法忠実度等にも優れる化学増幅型ネガ型レジストのためのネガ型感放射線性樹脂組成物を提供すること。【解決手段】 (A)フェノール性水酸基を有する重合性不飽和化合物の重合単位を含有してなるアルカリ可溶性樹脂、このアルカリ可溶性樹脂は重量平均分子量が4,100〜20,000であり、重量平均分子量/数平均分子量の比が1.25より大きく2.00以下である、(B)感放射線性酸発生剤、および(C)酸架橋剤からなるネガ型感放射線性樹脂組成物。
Claim (excerpt):
(A)フェノール性水酸基を有する重合性不飽和化合物の重合単位を含有してなるアルカリ可溶性樹脂、このアルカリ可溶性樹脂は重量平均分子量が4,100〜20,000であり、重量平均分子量/数平均分子量の比が1.25より大きく2.00以下である、(B)感放射線性酸発生剤、および(C)酸架橋剤からなることを特徴とするネガ型感放射線性樹脂組成物。
IPC (2):
G03F 7/038 601
, H01L 21/027
FI (2):
G03F 7/038 601
, H01L 21/30 502 R
F-Term (19):
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AA03
, 2H025AA04
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC05
, 2H025AC07
, 2H025AC08
, 2H025AD01
, 2H025BE00
, 2H025BJ10
, 2H025CB45
, 2H025CB52
, 2H025CB55
, 2H025CB56
, 2H025CC17
, 2H025FA17
, 2H025FA29
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
-
ネガ型レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-223780
Applicant:住友化学工業株式会社
-
ネガ型感放射線性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-347019
Applicant:日本合成ゴム株式会社
-
感放射線性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-329642
Applicant:ジェイエスアール株式会社
-
電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-320866
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-290578
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
電子線またはX線用化学増幅系ネガ型レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-358022
Applicant:富士写真フイルム株式会社
Show all
Return to Previous Page