Pat
J-GLOBAL ID:200903076631362593
電子線またはX線用化学増幅系ネガ型レジスト組成物
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
小栗 昌平 (外7名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999358022
Publication number (International publication number):2001174995
Application date: Dec. 16, 1999
Publication date: Jun. 29, 2001
Summary:
【要約】【課題】電子線またはX線の使用に対して感度と解像性・レジスト形状の特性を満足する電子線またはX線用ネガ型化学増幅系レジスト組成物を提供する。【解決手段】(1)重量平均分子量が3,000を超え、1,000,000以下であるアルカリ可溶性樹脂、(2)酸により架橋する架橋剤及び(3)電子線またはX線の照射により酸を発生する化合物を含有する化学増幅系ネガ型レジスト組成物において、アルカリ可溶性樹脂が特定の構造を有することを特徴とする。
Claim (excerpt):
(1)重量平均分子量が3,000を超え、1,000,000以下であるアルカリ可溶性樹脂(2)酸により架橋する架橋剤、及び(3)電子線またはX線の照射により酸を発生する化合物を含有する化学増幅系ネガ型レジスト組成物において、該アルカリ可溶性樹脂が下記条件(a)および(b)を満たすことを特徴とする電子線またはX線用化学増幅系ネガ型レジスト組成物。(a)炭素数6以上20以下の芳香環及び該芳香環に直接あるいは連結基を介して結合したエチレン性不飽和基を有するモノマーから誘導される繰り返し単位を少なくとも一種有すること(b)該芳香環のπ電子と芳香環上の置換基の非共有電子対の電子数の間に次の関係が成り立つこと【数1】(ここで、Nπは、π電子総数を表し、Nloneは該置換基としての炭素数1以上12以下の直鎖状、分岐状、あるいは環状のアルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、または水酸基の非共有電子対の総電子数を表す。2つ以上のアルコキシ基または水酸基は隣り合う二つが互いに結合して5員環以上の環構造を形成してもよい。)
IPC (5):
G03F 7/038 601
, C08L101/12
, G03F 7/027
, H01L 21/027
, C08F 12/00
FI (5):
G03F 7/038 601
, C08L101/12
, G03F 7/027
, C08F 12/00
, H01L 21/30 502 R
F-Term (59):
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AA03
, 2H025AB16
, 2H025AC05
, 2H025AC06
, 2H025AC08
, 2H025AD01
, 2H025BE00
, 2H025BE07
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB16
, 2H025CB41
, 2H025CB42
, 2H025CB45
, 2H025CB51
, 2H025CB55
, 2H025CB56
, 2H025CC03
, 2H025CC04
, 2H025CC17
, 4J002BC011
, 4J002BC121
, 4J002BE041
, 4J002BG041
, 4J002BG051
, 4J002BG071
, 4J002EB117
, 4J002EJ016
, 4J002EJ026
, 4J002EJ036
, 4J002EJ046
, 4J002EJ066
, 4J002EP016
, 4J002ET016
, 4J002EV076
, 4J002EV297
, 4J002FD146
, 4J002FD207
, 4J002GP03
, 4J100AB00P
, 4J100AB02P
, 4J100AB07P
, 4J100AE09P
, 4J100AL08P
, 4J100BA02P
, 4J100BA03P
, 4J100BA05P
, 4J100BC42P
, 4J100BC43P
, 4J100BC44P
, 4J100BC48P
, 4J100BC49P
, 4J100BC58P
, 4J100CA01
, 4J100CA03
, 4J100DA01
, 4J100JA38
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (11)
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感放射線性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-339137
Applicant:日本合成ゴム株式会社
-
感放射線性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-042742
Applicant:日本合成ゴム株式会社
-
ネガ型感光性組成物およびこれを用いたパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-039331
Applicant:株式会社東芝
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ネガ型画像記録材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-211731
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
化学増幅型ネガ型レジスト組成物およびネガ型レジストパターンの形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-289241
Applicant:東京応化工業株式会社
-
ネガ型感放射線性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-178670
Applicant:日本合成ゴム株式会社
-
レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-193724
Applicant:日本ゼオン株式会社
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特開平4-136859
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レジスト組成物用ベースポリマー並びにレジスト材料及びパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-298530
Applicant:信越化学工業株式会社
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化学増幅型ネガ型レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-023182
Applicant:東京応化工業株式会社
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染色されたフォトレジストとその方法及びそれからなる工業製品
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-307762
Applicant:シップレーカンパニーエルエルシー
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