二酸化珪素ナノラミネートの蒸着

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (5)：青木篤 , 石田敬 , 古賀哲次 , 永坂友康 , 西山雅也
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2003580596
Publication number (International publication number)：2005521792
Application date： Mar. 28, 2003
Publication date： Jul. 21, 2005
Summary：

本発明は、固体基板上に薄フィルムを蒸着させるための材料及び方法に関する。アルミニウム含有化合物とシラノールとの反応により、加熱した基板上にシリカ/アルミナナノラミネートを蒸着させる。このナノラミネートは厚みが均一であり、40:1を超えたアスペクト比を有する穴を覆うことができる。このフィルムは透明であり、絶縁性に優れている。本発明はまた、マイクロエレクトロニックデバイス中の電気導体の絶縁に用いられる改良された多孔質誘電材料を製造するための材料及び方法にも関し、特に表面多孔性が大きく低下されると同時に内部多孔性が望ましいk値を維持するように保たれる半多孔背いつ誘電材料を製造するための材料及び方法に関する。本発明は低k誘電材料によりせまい溝を選択的に埋めるとともに、この溝の外部の表面領域に誘電材料が付着することを防ぐために用いられる。

Claim (excerpt)：

ルイス酸特性を有する金属または半金属化合物を含有する領域を含む加熱された基板をシラノール蒸気にさらして、基板の酸性領域上に2nmを超える厚さを有するシリカ層を形成することを含む、基板上にシリカ層を形成する方法。

IPC (2)：

C23C16/42 , H01L21/316

FI (2)：

C23C16/42 , H01L21/316 X

F-Term (20)：

4K030AA11 , 4K030BA42 , 4K030BA43 , 4K030BA44 , 4K030CA04 , 4K030FA10 , 4K030HA01 , 4K030JA01 , 4K030JA06 , 4K030LA15 , 5F058BA20 , 5F058BC02 , 5F058BC04 , 5F058BD04 , 5F058BD06 , 5F058BF02 , 5F058BF06 , 5F058BF27 , 5F058BF37 , 5F058BJ02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

光学薄膜及び光学素子及び光学装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-246338 Applicant：株式会社ニコン
特開平3-177560
テクスチャ加工されたキャパシタ電極上のコンフォーマル薄膜
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-368569 Applicant：エイエスエムマイクロケミストリオーワイ

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