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J-GLOBAL ID:200903074869886369
流体処理装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (1):
大谷 嘉一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2007284630
Publication number (International publication number):2009106910
Application date: Nov. 01, 2007
Publication date: May. 21, 2009
Summary:
【課題】ナノバブル・マイクロバブル装置、電気分解や従来のパルスプラズマ処理装置では高濃度・難分解有機物・有害物質の浄化・滅菌がまだ不充分であり、本発明は、構造が簡単で安価でありながら流体の分解・分離処理に優れ、浄化、滅菌、殺菌効果に優れた流体処理装置の提供を目的とする。【解決手段】陽極と陰極とを交互に複数組配置した流体処理室と、陽極と陰極との間にパルス電磁波を印加するためのパルス電磁波発生手段とを備え、陽極と陰極との間に水中プラズマを発生させることで流体の処理をすることを特徴とする。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
陽極と陰極とを交互に複数組配置した流体処理室と、
陽極と陰極との間にパルス電磁波を印加するためのパルス電磁波発生手段とを備え、
陽極と陰極との間に水中プラズマを発生させることで流体の処理をすることを特徴とする流体処理装置。
IPC (1):
FI (1):
F-Term (34):
4D061DA01
, 4D061DA04
, 4D061DA08
, 4D061DA09
, 4D061DB07
, 4D061DB13
, 4D061DB18
, 4D061DB19
, 4D061DC08
, 4D061DC11
, 4D061DC13
, 4D061DC14
, 4D061DC23
, 4D061DC24
, 4D061DC25
, 4D061DC26
, 4D061DC28
, 4D061EA02
, 4D061EB01
, 4D061EB04
, 4D061EB05
, 4D061EB07
, 4D061EB12
, 4D061EB13
, 4D061EB16
, 4D061EB20
, 4D061EB28
, 4D061EB30
, 4D061EB31
, 4D061EB34
, 4D061ED12
, 4D061ED15
, 4D061FA04
, 4D061FA14
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (12)
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ナノバブルの利用方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-288963
Applicant:独立行政法人産業技術総合研究所
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微細気泡発生装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-231074
Applicant:株式会社多自然テクノワークス, 矢山利彦
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ナノバブル生成方法とその装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-109879
Applicant:ナノバブル株式会社
-
超微細イオン化気泡発生方法及び発生装置及び原水処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-288760
Applicant:株式会社オプトクリエーション, 株式会社テドリ
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プラズマ殺菌装置及びプラズマ殺菌清涼水器
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-151702
Applicant:科学技術振興事業団
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排水処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-069810
Applicant:三菱重工業株式会社, 堀井清之
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多重円筒状電極を用いた殺菌装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-157261
Applicant:三菱電機株式会社
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液体処理方法およびその装置
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Application number:特願2004-322585
Applicant:株式会社神戸製鋼所
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電解水生成装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-287131
Applicant:澤田欽二
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特開昭54-117153
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水処理方法および水処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-308975
Applicant:株式会社デンソー
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プラズマ反応器及びそれを利用した廃水処理装置並びにその方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-195801
Applicant:エルジー産電株式会社
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Cited by examiner (4)
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Applicant:三菱電機株式会社
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