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J-GLOBAL ID:200903074869886369

流体処理装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 大谷 嘉一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2007284630
Publication number (International publication number):2009106910
Application date: Nov. 01, 2007
Publication date: May. 21, 2009
Summary:
【課題】ナノバブル・マイクロバブル装置、電気分解や従来のパルスプラズマ処理装置では高濃度・難分解有機物・有害物質の浄化・滅菌がまだ不充分であり、本発明は、構造が簡単で安価でありながら流体の分解・分離処理に優れ、浄化、滅菌、殺菌効果に優れた流体処理装置の提供を目的とする。【解決手段】陽極と陰極とを交互に複数組配置した流体処理室と、陽極と陰極との間にパルス電磁波を印加するためのパルス電磁波発生手段とを備え、陽極と陰極との間に水中プラズマを発生させることで流体の処理をすることを特徴とする。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
陽極と陰極とを交互に複数組配置した流体処理室と、 陽極と陰極との間にパルス電磁波を印加するためのパルス電磁波発生手段とを備え、 陽極と陰極との間に水中プラズマを発生させることで流体の処理をすることを特徴とする流体処理装置。
IPC (1):
C02F 1/48
FI (1):
C02F1/48 B
F-Term (34):
4D061DA01 ,  4D061DA04 ,  4D061DA08 ,  4D061DA09 ,  4D061DB07 ,  4D061DB13 ,  4D061DB18 ,  4D061DB19 ,  4D061DC08 ,  4D061DC11 ,  4D061DC13 ,  4D061DC14 ,  4D061DC23 ,  4D061DC24 ,  4D061DC25 ,  4D061DC26 ,  4D061DC28 ,  4D061EA02 ,  4D061EB01 ,  4D061EB04 ,  4D061EB05 ,  4D061EB07 ,  4D061EB12 ,  4D061EB13 ,  4D061EB16 ,  4D061EB20 ,  4D061EB28 ,  4D061EB30 ,  4D061EB31 ,  4D061EB34 ,  4D061ED12 ,  4D061ED15 ,  4D061FA04 ,  4D061FA14
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (12)
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