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J-GLOBAL ID:200903074938969549

微細孔および/または微細溝を有する基材の孔埋めめっき方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 小野 信夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998249456
Publication number (International publication number):2000080496
Application date: Sep. 03, 1998
Publication date: Mar. 21, 2000
Summary:
【要約】【課題】 特別の電気的設備を必要とせず、簡単に、微細な溝あるいは孔に対し、ボイドの発生を防ぎながら効率よく銅めっきを行ない、基材上の配線溝を孔埋めする方法を開発すること。【解決手段】 微細孔および/または微細溝を有する基材上に、最初に低電流で短時間、例えば平均陰極電流密度0.03〜0.5A/dm2で10秒〜10分間めっきを行い、次いで電流を上げ、所定の膜厚までめっきすることを特徴とする微細孔および/または微細溝を有する基材の孔埋めめっき方法。
Claim (excerpt):
微細孔および/または微細溝を有する基材上に、最初に低電流で短時間のめっきを行い、次いで電流を上げ、所定の膜厚までめっきすることを特徴とする微細孔および/または微細溝を有する基材の孔埋めめっき方法。
IPC (3):
C25D 5/18 ,  C25D 7/12 ,  H01L 21/288
FI (3):
C25D 5/18 ,  C25D 7/12 ,  H01L 21/288 E
F-Term (13):
4K024AA09 ,  4K024AB19 ,  4K024BA01 ,  4K024BB11 ,  4K024BC10 ,  4K024CA06 ,  4K024CA07 ,  4K024CB05 ,  4K024GA01 ,  4K024GA04 ,  4M104BB04 ,  4M104BB08 ,  4M104DD52
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (9)
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Cited by examiner (9)
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