ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002243218
Publication number (International publication number)：2004085657
Application date： Aug. 23, 2002
Publication date： Mar. 18, 2004
Summary：

【課題】サブクォーターミクロンのパターン加工が可能な解像度を持ち、高感度なポジ型感放射線性組成物を得る。【解決手段】(a)α位に置換基を持つアクリレート単位またはα位に置換基を持つp-ヒドロキシスチレン単位を有し、酸の作用によりアルカリ可溶性となる重合体または(c)α位に置換基を持つアクリレート単位またはα位に置換基を持つp-ヒドロキシスチレン単位を有するアルカリ可溶性の重合体と、(d)(c)α位に置換基を持つアクリレート単位またはα位に置換基を持つp-ヒドロキシスチレン単位を有するアルカリ可溶性の重合体のアルカリ可溶性を抑制する効果を持ち、該抑制効果が酸の作用によって低下または消失する化合物、(b)特定の構造式で表されるイオン性酸発生剤を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造方法。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

(a)α位に置換基を持つアクリレート単位またはα位に置換基を持つp-ヒドロキシスチレン単位を有し、酸の作用によりアルカリ可溶性となる重合体、(b)下記一般式(1)および/または(2)で表されるイオン性酸発生剤を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物。

IPC (3)：

G03F7/039 , G03F7/004 , H01L21/027

FI (3)：

G03F7/039 601 , G03F7/004 503A , H01L21/30 502R

F-Term (13)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AB16 , 2H025AC06 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB14 , 2H025CB16 , 2H025CB45 , 2H025FA17

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

ポジ型感放射線性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-372542 Applicant：東レ株式会社
ポジ型感放射線性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-235290 Applicant：東レ株式会社
ポリイオン性ポリマー化合物、その製造方法及び光開始剤としての使用
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-271212 Applicant：アラン・ヴァレー, ミシュル・アルマン, グザヴィエ・オリヴラン, クリストフ・ミショト

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