光近接効果補正方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：深見久郎 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996259246
Publication number (International publication number)：1998104818
Application date： Sep. 30, 1996
Publication date： Apr. 24, 1998
Summary：

【要約】【課題】計算時間を短縮し、かつ、補正の精度を高く維持することのできる光近接効果補正方法を提供する。【解決手段】フォトマスクが装着される露光装置の光学条件に応じて露光ポイントの他の露光ポイントからの光近接効果の影響を受ける判断距離と光近接効果補正が必要か否かの面積率判断基準を求め、フォトマスクパターンの各辺を所定長さ以下の分割辺に区分し各分割辺の中点を中心とする半径が判断距離の円内のフォトマスクパターンの占める面積率を各分割辺ごとに求め、各分割辺の面積率と面積率判断基準とを比較して各分割辺の光近接効果補正が必要か否かの判断を行なう。

Claim (excerpt)：

フォトマスクに形成されるフォトマスクパターンのフォトマスクパターンデータに、予め光近接効果補正を行なうための光近接効果補正方法であって、前記フォトマスクが装着される露光装置の、露光光源の波長と、開口数と、部分コヒーレンスとの3つ値に基づいて、露光ポイントの光近接効果の影響を受ける判断距離を求めるステップと、前記露光ポイントを中心とした前記判断距離を半径とする円を描き、この円内の前記フォトマスクパターンの占める面積率から、前記露光ポイントの光近接効果補正が必要か否かの面積率判断基準を求めるステップと、前記フォトマスクパターンの各辺を所定長さ以下の分割辺に区分するステップと、区分された前記分割辺の中点を中心とした前記判断距離を半径とする円を描き、この円内に前記フォトマスクパターンの占める前記各分割辺の面積率を測定するステップと、前記各分割辺の面積率と前記面積率判断基準とを比較して、前記各分割辺の光近接効果補正が必要か否かの判断を行なうステップと、光近接効果補正の必要な前記分割辺に対して、前記面積率判断基準から得られる光近接効果の寸法変動量に基づいて前記フォトマスクパターンデータの修正を行なうステップと、を備える光近接効果補正方法。

IPC (2)：

G03F 1/08 , H01L 21/027

FI (3)：

G03F 1/08 A , H01L 21/30 502 P , H01L 21/30 502 W

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (8)

パターン作成方法、及びパターン作成システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-210892 Applicant：株式会社ニコン
特開平4-179952
特開昭58-034918

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