リソグラフィ装置の位置決めシステムおよび方法

Inventor： , , , , , , , , , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (4)：浅村皓 , 浅村肇 , 吉田裕 , 岩本行夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003366657
Publication number (International publication number)：2004282017
Application date： Sep. 19, 2003
Publication date： Oct. 07, 2004
Summary：

【課題】位置決めの正確さおよび/または強健性が改善されたリソグラフィ投影装置のアライメント・システムを提供する。【解決手段】リソグラフィ装置の位置決めシステムは、位置決め放射線源1、第1検出器チャネルおよび第2検出器チャネルを有する検出システム、および検出システムと連絡する位置決定ユニットを有する。位置決定ユニットは、第1および第2検出器チャネルからの情報を組み合わせて処理し、組み合わせた情報に基づいて、第2オブジェクト上の基準位置に対する第1オブジェクト上の位置決めマークの位置を決定する。【選択図】図3

Claim (excerpt)：

リソグラフィ装置の位置決めシステムにおいて、アライメント放射線源と、第1検出器チャネルおよび第2検出器チャネルを含む検出システムと、前記検出システムと連絡する位置決定ユニットとを有し、前記位置決定ユニットが、前記第1および第2検出器チャネルからの情報を組み合わせて処理し、加工物上の位置決めマークの位置を決定するように構成され、前記組合せは、前記加工物の製造プロセスを考慮に入れたものである位置決めシステム。

IPC (4)：

H01L21/027 , G01B11/00 , G01B21/00 , G03F9/00

FI (5)：

H01L21/30 525W , G01B11/00 G , G01B21/00 D , G03F9/00 H , H01L21/30 525R

F-Term (50)：

2F065AA03 , 2F065AA07 , 2F065AA14 , 2F065AA20 , 2F065BB02 , 2F065BB28 , 2F065CC20 , 2F065FF44 , 2F065FF48 , 2F065FF51 , 2F065GG04 , 2F065GG23 , 2F065HH03 , 2F065HH04 , 2F065HH08 , 2F065HH12 , 2F065HH13 , 2F065JJ05 , 2F065JJ08 , 2F065JJ09 , 2F065JJ18 , 2F065LL12 , 2F065LL36 , 2F065LL42 , 2F065LL46 , 2F065MM03 , 2F065NN06 , 2F065PP12 , 2F065QQ23 , 2F065QQ25 , 2F065SS13 , 2F065UU04 , 2F065UU08 , 2F069AA03 , 2F069AA17 , 2F069BB15 , 2F069CC06 , 2F069DD30 , 2F069GG04 , 2F069GG07 , 2F069HH09 , 2F069JJ14 , 2F069KK03 , 2F069NN08 , 2F069QQ10 , 5F046BA03 , 5F046EA07 , 5F046EB01 , 5F046FB01 , 5F046FC04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (10)

位置検出方法及び装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-014870 Applicant：株式会社ニコン
離軸整列ユニットを持つリトグラフ投射装置
Gazette classification：公表公報 Application number：特願平10-538308 Applicant：アーエスエムリソグラフィベスローテンフェンノートシャップ
位置検出方法、及び位置検出装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-088985 Applicant：株式会社ニコン

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