ガス循環システム

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：社本一夫 (外5名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001166096
Publication number (International publication number)：2002359180
Application date： Jun. 01, 2001
Publication date： Dec. 13, 2002
Summary：

【要約】【課題】不活性ガスの消費を抑えつつF2レーザーの能力を低下させる有害物質のシステム内への混入をウェーハ搬入・搬出時でも更に防止する。【解決手段】露光装置を気密性のあるチャンバー1で覆うことにより閉じた空間が形成された、ガス循環システムは、不活性ガスの循環ライン10と、循環ラインに不活性ガスを導入するガス導入口14と、循環ラインから不活性ガスを排出するためのガス排出口15と、不活性ガスを循環させる循環ファン8と、フィルター(6,11)と、不活性ガスの導入及び排出の両方並びに該導入及び排出の両停止の間でガス循環の形態を切り替え可能な切り替えバルブ(18,1920)と、不活性ガスを密封した状態でウェーハを収容可能であり、且つ、チャンバー1に開閉自在の仕切り手段17を介して連結された第2チャンバー16と、を備える。

Claim (excerpt)：

少なくともレチクル、レチクルステージ、縮小投影レンズ及びウェーハステージを含む露光装置を気密性のあるチャンバーで覆うことにより閉じた空間が形成された、ガス循環システムであって、少なくとも前記空間内に画成されて前記露光装置を通る不活性ガスの循環経路と、前記循環経路に不活性ガスを導入するためのガス導入口と、前記循環経路から不活性ガスを排出するためのガス排出口と、前記循環経路内で不活性ガスを循環させる循環手段と、前記循環経路に配置された1個以上のガス捕捉手段と、前記ガス導入口を介した不活性ガスの導入のみ、前記ガス排出口を介した不活性ガスの排出のみ、該導入及び排出の両方、並びに、該導入及び排出の両停止の間でガス循環の形態を切り替え可能な切り替え手段と、を備えたことを特徴とする、ガス循環システム。

IPC (2)：

H01L 21/027 , H01L 21/68

FI (2)：

H01L 21/68 A , H01L 21/30 516 F

F-Term (25)：

5F031CA02 , 5F031CA07 , 5F031DA08 , 5F031EA14 , 5F031EA18 , 5F031FA01 , 5F031FA07 , 5F031FA09 , 5F031FA11 , 5F031FA12 , 5F031JA01 , 5F031JA23 , 5F031LA04 , 5F031MA27 , 5F031NA04 , 5F031NA07 , 5F031NA11 , 5F031NA18 , 5F031PA21 , 5F031PA26 , 5F046AA17 , 5F046AA22 , 5F046CD01 , 5F046CD05 , 5F046CD06

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

密閉構造の露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-329184 Applicant：キヤノン販売株式会社, キヤノン株式会社
露光装置用ランプ装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-290381 Applicant：株式会社ニコン
汚染が防止された真空紫外域の光学装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-076878 Applicant：株式会社ニコン

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