オゾン-溶媒溶液を用いた基体の処理方法及び処理装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：鈴江武彦 (外3名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2001531742
Publication number (International publication number)：2003512736
Application date： Oct. 19, 2000
Publication date： Apr. 02, 2003
Summary：

【要約】【課題】オゾン-溶媒溶液を使用する物質の処理方法を提供すること。【解決手段】所定の温度T1で溶媒にオゾンを溶解して、オゾン化された水源により生成されたオゾン-溶媒溶液を形成する工程、熱交換器(28)によりオゾン-溶媒溶液を第2の温度に加熱する工程、およびオゾン-溶媒溶液の流れを、物質(38)の処理のため分配ノズル(36)に向ける工程を具備する、物質を処理する方法および装置。

Claim (excerpt)：

第1の温度で、オゾン-溶媒溶液を形成する工程、およびオゾン-溶媒溶液を第2の温度で物質と反応させる工程を具備し、前記第1の温度は前記第2の温度より低く、比較的低い第1の温度は溶媒中の溶解オゾン濃度の増加を促進し、比較的高い第2の温度はオゾン-溶媒溶液と前記物質との間の反応速度の増加を促進する、物質を処理する方法。

IPC (5)：

H01L 21/304 647 , H01L 21/304 651 , B08B 3/08 , B08B 7/00 , C03C 23/00

FI (5)：

H01L 21/304 647 Z , H01L 21/304 651 B , B08B 3/08 , B08B 7/00 , C03C 23/00 A

F-Term (23)：

3B116AA02 , 3B116AA03 , 3B116AB02 , 3B116AB34 , 3B116AB47 , 3B116BB02 , 3B116BB24 , 3B116BB34 , 3B116BB82 , 3B201AA02 , 3B201AA03 , 3B201AB02 , 3B201AB34 , 3B201AB47 , 3B201BB02 , 3B201BB24 , 3B201BB34 , 3B201BB82 , 3B201BB95 , 3B201BB98 , 4G059AA08 , 4G059AB19 , 4G059AC30

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

特開平4-192319
離型層形成方法及び離型層形成装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-351391 Applicant：株式会社ソニー・ディスクテクノロジー
特開平1-130785

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