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J-GLOBAL ID：200903087589165059

ウエット処理方法及び処理装置並びに回転洗浄方法及び回転洗浄装置

Inventor： 三森 健一 ,  笠間 泰彦 ,  呉 義烈 ,  大見 忠弘 ,  今岡 孝之
Applicant, Patent owner： 株式会社フロンテック ,  大見 忠弘 ,  オルガノ株式会社
Agent (1)： 福森 久夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997064019
Publication number (International publication number)：1998261612
Application date： Mar. 18, 1997
Publication date： Sep. 29, 1998
Summary：

【要約】【課題】 従来より高い清浄度が達成可能なウエット処理方法及び処理装置並びに回転洗浄方法及び回転洗浄装置を提供すること。【解決手段】 オゾン水による洗浄工程、電解イオン水によるブラシ洗浄工程、電解イオン水による高圧ジェット洗浄工程、電解イオン水に30kHz以上の超音波を照射して行う超音波洗浄工程、電解イオン水による洗浄工程、の少なくとも一つの工程を有する洗浄工程と、乾燥工程、とを有することを特徴とする。

Claim (excerpt)：

オゾン水による洗浄工程、電解イオン水によるブラシ洗浄工程、電解イオン水による高圧ジェット洗浄工程、電解イオン水に30kHz以上の超音波を照射して行う超音波洗浄工程、電解イオン水による洗浄工程、の少なくとも一つの工程を有する洗浄工程と、乾燥工程、とを有することを特徴とするウエット処理方法。

IPC (3)：

H01L 21/304 351 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304

FI (3)：

H01L 21/304 351 S ,  H01L 21/304 341 B ,  H01L 21/304 341 N

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

• ウエット処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-056110   Applicant：日本電気株式会社
• ウエット処理方法及び処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-185383   Applicant：株式会社フロンテック
• ウエハの洗浄方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-337385   Applicant：シャープ株式会社
• 洗浄方法及び洗浄装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-070903   Applicant：株式会社荏原製作所
• 半導体ウェハの洗浄装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-181444   Applicant：シャープ株式会社
• ウエット処理方法及び処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-169956   Applicant：株式会社フロンテック, オルガノ株式会社, 大見忠弘