基板の位置合わせ方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995144342
Publication number (International publication number)：1996339951
Application date： Jun. 12, 1995
Publication date： Dec. 24, 1996
Summary：

【要約】【目的】アライメント系の位置合わせ精度を向上させる。【構成】本発明によれば、まず、対象となる基板において、全点または多数ショットのアライメントマーク計測を行う。そして、計測した結果をEGA処理し、計測誤差のランダム成分(σR)を求める。さらに、計測値のバラツキ(σT)の関数として表される計測誤差の線形成分(σL)とランダム成分(σR)とから計測再現性(σTM)を推定する。そして、このようにして求めた計測再現性(σTM)に応じて、計測された複数のショット領域中の飛びショット領域を判定し、その飛びショット領域を異常値としてはね、異常値を含まない残りのショットに対してEGA処理をするので、高精度のアライメントを行うことができる。。

Claim (excerpt)：

基板上に形成された複数のショット領域の各々を、前記基板の移動位置を規定する静止座標系内の所定の基準位置に対して位置合わせするにあたって、前記複数のショット領域のうちから複数のショット領域を選択し、この選択された複数のショット領域の前記静止座標系における座標位置を計測し、この計測上の座標位置とそれに対応する設計上の座標位置との平均偏差が最小となるように、前記計測上の座標位置を統計演算処理することによって、前記基板上の複数のショット領域の各々の前記静止座標系上における座標位置を計算し、この計算上の座標位置に従って前記基板の移動位置を制御することによって、前記複数のショット領域の各々を前記基準位置に対して順次位置合わせする方法において、計測値のバラツキ(σT)の関数として表される計測誤差の線形成分(σL)と計測誤差のランダム成分(σR)とから計測再現性(σTM)を推定し、推定された計測再現性(σTM)に応じて、前記統計演算処理での使用に対する前記複数の計測上の座標位置の適否を判定することを特徴とする、基板の位置合わせ方法。

IPC (2)：

H01L 21/027 , G03F 9/00

FI (3)：

H01L 21/30 521 , G03F 9/00 H , H01L 21/30 525 W

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (6)

位置合わせ方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-047493 Applicant：株式会社ニコン
位置合わせ方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-094560 Applicant：株式会社ニコン
位置合わせ方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-137913 Applicant：株式会社ニコン

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