Pat
J-GLOBAL ID:200903076106419045

紫外光照射により物質表面を改質する方法及び紫外光照射装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 高橋 敬四郎
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995161850
Publication number (International publication number):1997015601
Application date: Jun. 28, 1995
Publication date: Jan. 17, 1997
Summary:
【要約】【目的】 マスクに付着したゴミの影響を受けにくく、かつ比較的低価格の紫外光照射装置及び照射方法を提供する。【構成】 紫外光によって改質される表面を有する物質の該表面の第1の方向に対して平行な方向に延在する少なくとも1本の直線状の領域に、向きの異なる複数の光線を含む紫外光であって、該複数の光線を前記第1の方向に対して平行な平面に垂直投影した複数の線像が相互に交わり、該複数の光線を前記第1の方向に対して垂直な平面に垂直投影した複数の線像が相互にほぼ平行である前記紫外光を照射して、前記表面を改質する紫外線照射工程を含む。
Claim (excerpt):
紫外光によって改質される表面を有する物質の該表面の第1の方向に対して平行な方向に延在する少なくとも1本の直線状の領域に、向きの異なる複数の光線を含む紫外光であって、該複数の光線を前記第1の方向に対して平行な平面に垂直投影した複数の線像が相互に交わり、該複数の光線を前記第1の方向に対して垂直な平面に垂直投影した複数の線像が相互にほぼ平行である前記紫外光を照射して、前記表面を改質する紫外線照射工程を含む物質表面改質方法。
IPC (3):
G02F 1/1337 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500
FI (3):
G02F 1/1337 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
Show all

Return to Previous Page