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J-GLOBAL ID：200903011595102216

露光装置および露光方法

Inventor：
辻川 晋

About 辻川 晋

, 
谷口 幸夫

About 谷口 幸夫

, 
山口 弘高

About 山口 弘高


Applicant, Patent owner：
株式会社 液晶先端技術開発センター

About 株式会社 液晶先端技術開発センター


Agent (8)： 鈴江 武彦 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  蔵田 昌俊 ,  峰 隆司 ,  福原 淑弘 ,  村松 貞男 ,  橋本 良郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003193190
Publication number (International publication number)：2005032777
Application date： Jul. 07, 2003
Publication date： Feb. 03, 2005
Summary：
【課題】露光中に行う露光用基板の傾きおよび高さの実時間調整をなくす。【解決手段】露光装置は特定方向において感光面に凹凸を有する露光用基板Pを載置する基板ステージ11と、露光用基板Pの感光面Sを選択的に露光する露光パターンを照射する照射部13と、基板ステージ11に載置された露光用基板Pの傾きおよび高さを照射部13の焦点深度内の焦点面に対して調整する調整機構14とを備える。この露光装置はさらに基板ステージ11に載置された露光用基板Pの感光面Sの起伏分布を検出し、複数の感光エリアSBが焦点深度深度の範囲に高低差を収めるエリア幅で特定方向に並ぶように露光用基板Pの感光面Sを区分し、調整機構14によって各感光エリアSBを焦点深度内に設定して照射部13から各感光エリアSBに露光パターンの対応部分を照射させる制御部15を備える。【選択図】 図2
Claim (excerpt)：
特定方向において凹凸を有する露光用基板に露光パターンを投影光学系により照射して露光する露光装置であって、前記投影光学系による照射範囲をこの投影光学系の許容露光深度の範囲内で選択し、前記露光用基板面上で前記特定方向に移動する照射範囲移動手段と、前記照射範囲を前記特定方向に直交する方向に移動させて露光する露光手段とを備えることを特徴とする露光装置。
IPC (2)：
H01L21/027 ,  G03F7/20
FI (3)：
H01L21/30 514C ,  G03F7/20 501 ,  H01L21/30 516B
F-Term (12)：
2H097BA01 ,  2H097GB00 ,  2H097LA12 ,  5F046BA05 ,  5F046CC01 ,  5F046CC03 ,  5F046CC05 ,  5F046DA05 ,  5F046DA06 ,  5F046DA14 ,  5F046DB05 ,  5F046DC10
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (10)
  • 露光装置及び露光方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-316451   Applicant：株式会社ニコン
  • 薄膜トランジスタの製造方法及び電気光学装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-201904   Applicant：セイコーエプソン株式会社
  • 露光装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-220867   Applicant：株式会社堀場製作所
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