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J-GLOBAL ID：200903077730562118

シリカ系膜の形成溶液

Inventor：
神谷 和孝

About 神谷 和孝

, 
佐々木 輝幸

About 佐々木 輝幸

, 
井口 一行

About 井口 一行


Applicant, Patent owner：
日本板硝子株式会社

About 日本板硝子株式会社


Agent (1)： 伊藤 俊哉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005103614
Publication number (International publication number)：2006111851
Application date： Mar. 31, 2005
Publication date： Apr. 27, 2006
Summary：
【課題】 ゾルゲル法によって、熔融ガラス並みの硬度を有するシリカ系膜を形成することができるシリカ系膜の形成溶液を提供する。【解決手段】 シリコンアルコキシド、強酸、水およびアルコールを含み、 前記シリコンアルコキシドの濃度が、当該シリコンアルコキシドに含まれるシリコン原子をSiO2に換算したときのSiO2濃度により表示して3質量%を超え9質量%未満であり、前記水のモル数が、前記シリコンアルコキシドに含まれるシリコン原子の総モル数の4倍以上10倍以下であり、前記強酸の濃度が、前記強酸からプロトンが完全に解離したと仮定したときのプロトンの質量モル濃度により表示して、0.001〜0.2mol/kgの範囲にあることを特徴とするシリカ系膜の形成溶液である。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
シリコンアルコキシド、強酸、水およびアルコールを含み、 前記シリコンアルコキシドの濃度が、当該シリコンアルコキシドに含まれるシリコン原子をSiO2に換算したときのSiO2濃度により表示して3質量%を超え9質量%未満であり、 前記水のモル数が、前記シリコンアルコキシドに含まれるシリコン原子の総モル数の4倍以上10倍以下であり、 前記強酸の濃度が、前記強酸からプロトンが完全に解離したと仮定したときのプロトンの質量モル濃度により表示して、0.001〜0.2mol/kgの範囲にあることを特徴とするシリカ系膜の形成溶液。
IPC (4)：
C09D 1/00 ,  C09D 5/24 ,  C09D 183/02 ,  C09D 183/04
FI (4)：
C09D1/00 ,  C09D5/24 ,  C09D183/02 ,  C09D183/04
F-Term (22)：
4G059AA01 ,  4G059AC04 ,  4G059AC06 ,  4G059AC07 ,  4G059AC08 ,  4G059AC24 ,  4G059EA05 ,  4G059EB07 ,  4J038AA01 ,  4J038DL021 ,  4J038DL031 ,  4J038HA096 ,  4J038HA336 ,  4J038HA376 ,  4J038HA416 ,  4J038JA17 ,  4J038KA08 ,  4J038MA06 ,  4J038MA14 ,  4J038NA11 ,  4J038NA20 ,  4J038PA19
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (9)
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