耐熱性炭素膜を有する成形用部材、その製造方法、及びその製造装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：岩谷龍
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003412484
Publication number (International publication number)：2005169816
Application date： Dec. 10, 2003
Publication date： Jun. 30, 2005
Summary：

【課題】極薄膜厚であり、高い耐熱性を持つ炭素膜で被覆されている成形用部材であって、基材表面が高硬度であり、耐摩耗性、熱的安定性、高温離型性、化学的安定性並びに表面平坦性に優れ、炭素膜と基材との密着性に優れ、かつ高温成形性、ナノメートルオーダ単位の精密成形性並びに離型性に優れた成形用部材、その製造方法、及びその製造方法に使用できる製造装置の提供。【解決手段】基材表面に、ガスクラスターイオンビーム援用照射下に、ケイ素、ケイ素炭化物、ケイ素酸化物、ケイ素窒化物、クロム、クロム炭化物、クロム酸化物、クロム窒化物、タングステン、タングステン炭化物、タングステン酸化物、タングステン窒化物、チタン、チタン炭化物、チタン酸化物、チタン窒化物、モリブデン、モリブデン炭化物、モリブデン酸化物及びモリブデン窒化物のうち1種類または2種類以上を含有する中間層膜を形成し、ついでガスクラスターイオンビーム援用照射下に、炭素膜を中間層膜上に形成することを特徴とする成形用部材の製造方法。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

ガスクラスターイオンビーム援用照射下に、ケイ素、ケイ素炭化物、ケイ素酸化物、ケイ素窒化物、クロム、クロム炭化物、クロム酸化物、クロム窒化物、タングステン、タングステン炭化物、タングステン酸化物、タングステン窒化物、チタン、チタン炭化物、チタン酸化物、チタン窒化物、モリブデン、モリブデン炭化物、モリブデン酸化物及びモリブデン窒化物のうち1種類または2種類以上を含有する中間層膜を基材表面に形成し、ついでガスクラスターイオンビーム援用照射下に、炭素膜を中間層膜上に形成することを特徴とする成形用部材の製造方法。

IPC (7)：

B32B9/00 , C03B11/00 , C03B40/00 , C04B41/89 , C04B41/90 , C23C28/00 , G11B7/26

FI (7)：

B32B9/00 A , C03B11/00 M , C03B40/00 , C04B41/89 J , C04B41/90 A , C23C28/00 B , G11B7/26 511

F-Term (54)：

4F100AA12A , 4F100AA15A , 4F100AA16A , 4F100AA20A , 4F100AA22A , 4F100AA37C , 4F100AB02B , 4F100AB11A , 4F100AB12A , 4F100AB13A , 4F100AB13B , 4F100AB15B , 4F100AB16B , 4F100AB17B , 4F100AB20A , 4F100AB31B , 4F100AD00B , 4F100AT00B , 4F100BA03 , 4F100BA07 , 4F100BA10B , 4F100BA10C , 4F100DD07 , 4F100EH71B , 4F100EJ52A , 4F100EJ52B , 4F100GB90 , 4F100JJ03 , 4F100JK12 , 4F100JK12B , 4F100JK15 , 4G015HA01 , 4K044AA02 , 4K044AA09 , 4K044AA13 , 4K044AB10 , 4K044BA02 , 4K044BA06 , 4K044BA12 , 4K044BA15 , 4K044BA18 , 4K044BA19 , 4K044BB03 , 4K044BB04 , 4K044BC01 , 4K044BC02 , 4K044BC06 , 4K044BC11 , 4K044CA13 , 4K044CA14 , 4K044CA18 , 5D121AA02 , 5D121DD01 , 5D121DD18

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

炭素系硬質膜の形成方法並びにその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-334277 Applicant：株式会社野村鍍金

Cited by examiner (5)

光学素子成形用型及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-255022 Applicant：キヤノン株式会社
炭素系硬質膜の形成方法並びにその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-334277 Applicant：株式会社野村鍍金
窒素化合物ガスクラスターイオンビームによる窒化物もしくは窒化表面の形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-280525 Applicant：科学技術振興事業団

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