Pat
J-GLOBAL ID：200903078571926053

微小構造体の製造方法

Inventor：
向井剛輝

About 向井剛輝

, 
八高隆雄

About 八高隆雄

, 
丸尾昭二

About 丸尾昭二


Applicant, Patent owner：
国立大学法人横浜国立大学

About 国立大学法人横浜国立大学


Agent (1)： 島添 芳彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004217825
Publication number (International publication number)：2006035602
Application date： Jul. 26, 2004
Publication date： Feb. 09, 2006
Summary：
【課題】 光造形法により造形可能な微細且つ複雑な三次元構造を有し、任意の物性を有する微小構造体を高精度に成形可能な微小構造体の製造方法を提供する。【解決手段】 光重合体(1)が、微小且つ三次元構造の転写型(10)として光造形される。光重合体の三次元構造は、転写型によって任意の金属(13)に転写される。金属は、転写型のキャビティ(11)内に充填され、キャビティ内の金属は、電解研削及び樹脂除去の工程を経て転写型から脱型される。また、転写型でエッチング用マスクを作製しても良く、転写型(30)の輪郭は、特殊シリコーン樹脂(40)に転写され、特殊シリコーン樹脂は、エッチング用マスクとして基板(41)に密着し、基板は、エッチングされる。【選択図】 図3
Claim (excerpt)：
光造形法により造形した光重合体を用いた微小構造体の製造方法において、 光重合体の三次元構造体を光造形法で任意形態に造形して微小且つ三次元構造の転写型を形成する転写型作製工程と、 該転写型の輪郭を任意の素材に転写する転写工程とを有し、 光造形法で造形可能な三次元構造と実質的に同一の構造を有する微小且つ任意物性の微小構造体を製造することを特徴とする微小構造体の製造方法。
IPC (2)：
B29C 67/00 ,  B29C 33/40
FI (2)：
B29C67/00 ,  B29C33/40
F-Term (17)：
4F202AJ03 ,  4F202CA27 ,  4F202CB01 ,  4F202CD28 ,  4F202CD30 ,  4F213AA33 ,  4F213AA44 ,  4F213AJ03 ,  4F213AQ03 ,  4F213WA25 ,  4F213WA97 ,  4F213WB01 ,  4F213WL04 ,  4F213WL09 ,  4F213WL12 ,  4F213WL67 ,  4F213WL92
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (5)
Show all
Cited by examiner (3)

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM