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J-GLOBAL ID：200903078742225652

複合硬質皮膜、その製造方法及び成膜装置

Inventor：
井手 幸夫

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服部 幸司

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中村 聡志

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本多 祐二

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Applicant, Patent owner：
山口県

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和興産業株式会社

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株式会社ユーテック

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Agent (1)： 柳瀬 睦肇 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002071792
Publication number (International publication number)：2003268571
Application date： Mar. 15, 2002
Publication date： Sep. 25, 2003
Summary：
【要約】【課題】 摩擦係数が小さく且つ密着強度が大きい複合硬質皮膜及びその製造方法を提供する。【解決手段】 本発明に係る複合硬質皮膜の製造方法は、高潤滑性と高密着強度を有する複合硬質皮膜の製造方法であって、基材2上に密着強度の高い窒化クロム層21をPVD法により形成する工程と、この窒化クロム層21上にSi化合物層22を、Si化合物ガスを用いたプラズマCVD法により形成する工程と、このSi化合物層22上に潤滑性の高いSi含有DLC層23をプラズマCVD法により形成する工程と、を具備するものである。上記窒化クロム層に代えて他の化合物層を用いても良く、例えばAl、Cr、Si、Ta、Ti、Mo、Nd、Zr及びWの群から選ばれた1又は2以上の窒化物層、酸化物層又は炭化物層を用いても良い。
Claim (excerpt)：
基材上に密着強度の高い化合物層をPVD法により形成する工程と、この化合物層上に潤滑性の高いSi含有炭素層をプラズマCVD法により形成する工程と、を具備することを特徴とする複合硬質皮膜の製造方法。
IPC (4)：
C23C 28/04 ,  C23C 8/36 ,  C23C 14/06 ,  C23C 16/27
FI (4)：
C23C 28/04 ,  C23C 8/36 ,  C23C 14/06 P ,  C23C 16/27
F-Term (38)：
4K028BA02 ,  4K028BA15 ,  4K029BA41 ,  4K029BA43 ,  4K029BA44 ,  4K029BA46 ,  4K029BA48 ,  4K029BA55 ,  4K029BA56 ,  4K029BA57 ,  4K029BA58 ,  4K029BA60 ,  4K029BB02 ,  4K029BC00 ,  4K029BC02 ,  4K029BD05 ,  4K029CA04 ,  4K029CA06 ,  4K030AA06 ,  4K030AA09 ,  4K030BA28 ,  4K030FA01 ,  4K030HA04 ,  4K030LA01 ,  4K030LA21 ,  4K044BA02 ,  4K044BA10 ,  4K044BA12 ,  4K044BA15 ,  4K044BA18 ,  4K044BA19 ,  4K044BA21 ,  4K044BB03 ,  4K044BC01 ,  4K044BC06 ,  4K044CA07 ,  4K044CA13 ,  4K044CA14
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (15)
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