ワードラインの製造方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：川崎隆夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997011965
Publication number (International publication number)：1998107034
Application date： Jan. 07, 1997
Publication date： Apr. 24, 1998
Summary：

【要約】【課題】ワードラインのパターン化を容易に行えるワードラインの製造方法を提供する。【解決手段】基板上に多数の列のゲートを形成する。金属珪化物層をゲートの上方に形成した後、シリコン富有層を形成する。シリコン富有層は高シリコン濃度を持つ他の金属珪化物層かまたは純粋なシリコン層である。

Claim (excerpt)：

ワードラインの製造方法において、基板を用意し、基板上にゲートを形成し、ゲート上に第1金属珪化物層を形成し、第1金属珪化物層より高い濃度のシリコンを持つ第2金属珪化物層を第1金属珪化物層上に形成する、ことを特徴とする製造方法。

IPC (6)：

H01L 21/3205 , H01L 21/285 301 , H01L 27/108 , H01L 21/8242 , H01L 29/78 , H01L 21/336

FI (5)：

H01L 21/88 P , H01L 21/285 301 T , H01L 27/10 671 A , H01L 29/78 301 P , H01L 29/78 301 G

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

特開平4-061169
特開昭64-039064
特開昭64-039773

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