Pat
J-GLOBAL ID：200903079824508861

疎水化シリカ組成物

Inventor：
小松原 胆治

About 小松原 胆治

, 
林 浩克

About 林 浩克

, 
土井 裕幸

About 土井 裕幸


Applicant, Patent owner：
株式会社トクヤマ

About 株式会社トクヤマ


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003156938
Publication number (International publication number)：2004359476
Application date： Jun. 02, 2003
Publication date： Dec. 24, 2004
Summary：
【課題】樹脂粉末に添加した際に分散性が高いため、シリカ微粉末が樹脂粉末に対してスペーサーとして有効に働き、且つ、樹脂内部に埋没することなく長期にわたり流動性を付与する効果が高い疎水化されたシリカ組成物を提供する。【解決手段】平均粒子径0.05〜1μmのシリカ微粉末(A)とヒュームドシリカ(B)との疎水化された混合物よりなり、該混合物中に占めるヒュームドシリカ(B)の割合R%が式(1)に示す範囲内にあり、且つ、710μm以上の凝集粒子の含有量が200ppm以下であることを特徴とする疎水化シリカ組成物であり、特にトナー用の外添剤として有用である。。3/(d+0.03)≦R≦40/(d+0.4) ・・・ (1)(但し、dはシリカ微粉末(A)の平均粒子径(単位:μm))【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
平均粒子径0.05〜1μmのシリカ微粉末(A)とヒュームドシリカ(B)との疎水化された混合物よりなり、該混合物中に占めるヒュームドシリカ(B)の割合R%が式(1)に示す範囲内にあり、且つ、710μm以上の凝集粒子の含有量が200ppm以下であることを特徴とする疎水化シリカ組成物。 3/(d+0.03)≦R≦40/(d+0.4) ・・・ (1) (但し、dはシリカ微粉末(A)の平均粒子径(単位:μm))
IPC (2)：
C01B33/18 ,  G03G9/08
FI (2)：
C01B33/18 C ,  G03G9/08 375
F-Term (20)：
2H005AA08 ,  2H005CA26 ,  2H005CB13 ,  2H005DA05 ,  2H005EA05 ,  2H005EA07 ,  2H005EA10 ,  4G072AA41 ,  4G072BB05 ,  4G072CC16 ,  4G072CC18 ,  4G072GG02 ,  4G072HH14 ,  4G072HH17 ,  4G072HH29 ,  4G072MM02 ,  4G072QQ07 ,  4G072TT04 ,  4G072TT30 ,  4G072UU30
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (7)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM