Pat
J-GLOBAL ID：200903080063048886

液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法

Inventor：
入江 真樹子

About 入江 真樹子


Applicant, Patent owner：
東京応化工業株式会社

About 東京応化工業株式会社


Agent (5)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006006013
Publication number (International publication number)：2007187887
Application date： Jan. 13, 2006
Publication date： Jul. 26, 2007
Summary：
【課題】優れた液浸媒体耐性およびリソグラフィー特性を両立できる液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。【解決手段】酸の作用によりアルカリ溶解性が変化する樹脂成分(A)および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含む液浸露光用レジスト組成物であって、前記樹脂成分(A)が、フッ素原子を含有する樹脂(A1)と、アクリル酸から誘導される構成単位(a’)を有し、かつフッ素原子を含有しない樹脂(A2)とを含有し、前記樹脂成分(A)中の前記樹脂(A1)の含有量が0.1〜50質量%の範囲内であることを特徴とする液浸露光用レジスト組成物。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
酸の作用によりアルカリ溶解性が変化する樹脂成分(A)および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含む液浸露光用レジスト組成物であって、 前記樹脂成分(A)が、フッ素原子を含有する樹脂(A1)と、アクリル酸から誘導される構成単位(a’)を有し、かつフッ素原子を含有しない樹脂(A2)とを含有し、 前記樹脂成分(A)中の前記樹脂(A1)の含有量が、0.1〜50質量%の範囲内であることを特徴とする液浸露光用レジスト組成物。
IPC (4)：
G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  G03F 7/004 ,  C08F 220/22
FI (4)：
G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  G03F7/004 501 ,  C08F220/22
F-Term (30)：
2H025AB16 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  2H025FA12 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA03R ,  4J100BA11P ,  4J100BB11P ,  4J100BB11Q ,  4J100BB11R ,  4J100BC04Q ,  4J100BC08P ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09R ,  4J100BC53P ,  4J100BD10P ,  4J100BD10Q ,  4J100BD10R ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1) Cited by examiner (4)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM