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J-GLOBAL ID：200903089224468730

液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

Inventor：
神田 博美

About 神田 博美

, 
稲部 陽樹

About 稲部 陽樹


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (5)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005196529
Publication number (International publication number)：2006048029
Application date： Jul. 05, 2005
Publication date： Feb. 16, 2006
Summary：
【課題】 液浸露光時に於ける、欠陥、スカム、及び溶出割合が改善された液浸露光に好適なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】 (A)単環または多環の脂環炭化水素構造を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、 (B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、 (C)炭素数5以上のアルキル基を有するアルカリ可溶性化合物、 (D)溶剤を含有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
(A)単環または多環の脂環炭化水素構造を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、 (B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、 (C)炭素数5以上のアルキル基を有するアルカリ可溶性化合物、 (D)溶剤を含有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。
IPC (3)：
G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027
FI (3)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R
F-Term (14)：
2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB43 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (14)
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