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J-GLOBAL ID:200903080113967136

高耐熱ポリマー光導波路形成材料、それを用いた光導波路およびその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 朝日奈 宗太 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999236710
Publication number (International publication number):2001059918
Application date: Aug. 24, 1999
Publication date: Mar. 06, 2001
Summary:
【要約】【課題】 耐熱性、耐環境性に非常に優れ、透明性が高く、とくに近赤外領域での透明性に優れた高耐熱ポリマー光導波路形成材料を提供する。【解決手段】 一般式(1):【化1】(式中、R1、R2はアリール基、水素原子、脂肪族アルキル基または不飽和結合を有する官能基であり、同種でもよく、異種でもよい。R3、R4、R5、R6は水素原子、アリール基、脂肪族アルキル基、トリアルキルシリル基または不飽和結合を有する官能基であり、同種でもよく、異種でもよい。また、nは整数で重量平均分子量が1万以上である。)で表され、側鎖のR1、R2にアリール基を含むシリコーンラダー樹脂からなる組成物を用いて光導波路を形成する。
Claim (excerpt):
一般式(1):【化1】(式中、R1、R2はアリール基、水素原子、脂肪族アルキル基または不飽和結合を有する官能基であり、同種でもよく、異種でもよい。R3、R4、R5、R6は水素原子、アリール基、脂肪族アルキル基、トリアルキルシリル基または不飽和結合を有する官能基であり、同種でもよく、異種でもよい。ただし、nは整数で重量平均分子量が1万以上である。)で表され、側鎖のR1、R2にアリール基を必ず含むシリコーンラダー樹脂からなる光導波路形成材料用シリコーンラダー系樹脂組成物。
IPC (4):
G02B 6/12 ,  C08K 5/541 ,  C08L 83/04 ,  G02B 6/13
FI (4):
G02B 6/12 N ,  C08K 5/541 ,  C08L 83/04 ,  G02B 6/12 M
F-Term (16):
2H047KA04 ,  2H047PA02 ,  2H047PA21 ,  2H047PA24 ,  2H047PA28 ,  2H047QA05 ,  2H047TA00 ,  4J002CP141 ,  4J002EX026 ,  4J002EX056 ,  4J002EX066 ,  4J002EX076 ,  4J002EX086 ,  4J002FD146 ,  4J002GP00 ,  4J002GP02
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
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