Pat
J-GLOBAL ID:200903080284003305
表示装置用配線、これを含む薄膜トランジスタ表示板、及びその製造方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (3):
八田 幹雄
, 奈良 泰男
, 宇谷 勝幸
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006145641
Publication number (International publication number):2006332674
Application date: May. 25, 2006
Publication date: Dec. 07, 2006
Summary:
【課題】銀(Ag)配線の低抵抗性の利点を生かしながらも接着性及びエッチングプロファイルを補完する薄膜トランジスタの製造方法を提供する。【解決手段】基板110上に第1信号線を形成する段階と、第1信号線上にゲート絶縁膜140及び半導体層を順次に形成する段階と、ゲート絶縁膜140及び半導体層上に第2信号線171を形成する段階と、第2信号線171と連結される画素電極191を形成する段階と、を含み、第1信号線を形成する段階及び第2信号線171を形成する段階のうちの少なくとも一つの段階は、第1導電性酸化膜を形成する段階と、銀(Ag)を含む導電層を形成する段階と、第1導電性酸化膜よりも低い温度で第2導電性酸化膜を形成する段階と、を含む。【選択図】図2
Claim (excerpt):
多結晶の第1導電性酸化物を含む第1導電層と、
銀を含む第2導電層と、
非晶質導電性酸化物から形成される多結晶の第2導電性酸化物を含む第3導電層と、
を含む表示装置用配線。
IPC (3):
H01L 23/52
, H01L 21/320
, H01L 29/786
FI (2):
H01L21/88 R
, H01L29/78 612C
F-Term (92):
5F033GG03
, 5F033GG04
, 5F033HH08
, 5F033HH14
, 5F033HH25
, 5F033HH35
, 5F033HH38
, 5F033JJ01
, 5F033JJ08
, 5F033JJ14
, 5F033JJ35
, 5F033JJ38
, 5F033KK14
, 5F033KK25
, 5F033KK35
, 5F033KK38
, 5F033LL06
, 5F033MM08
, 5F033MM13
, 5F033MM19
, 5F033MM21
, 5F033MM23
, 5F033PP15
, 5F033QQ08
, 5F033QQ09
, 5F033QQ10
, 5F033QQ19
, 5F033QQ35
, 5F033QQ37
, 5F033QQ89
, 5F033QQ90
, 5F033QQ98
, 5F033RR01
, 5F033RR04
, 5F033RR06
, 5F033RR11
, 5F033RR27
, 5F033TT04
, 5F033VV06
, 5F033VV10
, 5F033VV15
, 5F033WW03
, 5F033XX00
, 5F033XX10
, 5F033XX13
, 5F033XX27
, 5F033XX28
, 5F110AA03
, 5F110AA26
, 5F110BB02
, 5F110CC07
, 5F110DD01
, 5F110DD02
, 5F110EE02
, 5F110EE07
, 5F110EE15
, 5F110EE23
, 5F110EE44
, 5F110FF02
, 5F110FF03
, 5F110FF27
, 5F110GG02
, 5F110GG13
, 5F110GG15
, 5F110GG35
, 5F110GG42
, 5F110HK02
, 5F110HK05
, 5F110HK07
, 5F110HK09
, 5F110HK16
, 5F110HK22
, 5F110HK25
, 5F110HK32
, 5F110HK33
, 5F110HL02
, 5F110HL03
, 5F110HL06
, 5F110HL07
, 5F110HL23
, 5F110HM03
, 5F110NN03
, 5F110NN22
, 5F110NN23
, 5F110NN24
, 5F110NN27
, 5F110NN28
, 5F110NN35
, 5F110NN73
, 5F110QQ05
, 5F110QQ09
, 5F110QQ19
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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