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J-GLOBAL ID：200903080305219486

投影露光装置及び位置合わせ方法

Inventor：
石井 勇樹

About 石井 勇樹


Applicant, Patent owner：
株式会社ニコン

About 株式会社ニコン


Agent (1)： 森岡 正樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997114326
Publication number (International publication number)：1998294268
Application date： Apr. 16, 1997
Publication date： Nov. 04, 1998
Summary：
【要約】【課題】本発明は、投影露光装置及び位置合わせ方法に関し、ベースライン誤差を低減させてベースライン計測の精度を向上させることができる投影露光装置及び位置合わせ方法を提供することを目的とする。【解決手段】レチクルRを照明する照明光源2と、レチクルRのパターンを基板ステージWSTに載置された感光基板W上に投影する投影光学系PLと、レチクルRと基板アライメント用光学系14との相対位置(ベースライン)の測定に用いる基準マーク12、20、22が形成されたアライメント用基準板10と、複数のレチクルアライメントマークの空間像の各位置を測定するステージセンサ部26と、測定された複数の空間像の各投影位置情報に基づいて、ベースラインの値を補正し、また露光用パターン描画領域の照明とレチクルアライメントマークの照明とを切り替えるように照明光ILを制御する制御装置52とを備えるように構成する。
Claim (excerpt)：
複数のレチクルアライメントマークと露光用パターンが形成されたレチクルを照明する照明系と、前記レチクルのパターンを基板上に投影する投影光学系と、前記基板を載置して前記投影光学系の投影面内を2次元的に移動可能な基板ステージと、前記基板上の所定のマークを観察する基板アライメント用光学系と、前記基板ステージ上に設けられ、前記レチクルと前記基板アライメント用光学系との相対位置の測定に用いる基準マークが形成されたアライメント用基準板と、前記基板ステージ上に設けられ、前記投影光学系による前記複数のレチクルアライメントマークの空間像を検出して当該空間像の各位置を測定する空間像位置測定手段と、前記空間像位置測定手段により測定された複数の前記空間像の各投影位置情報に基づいて、前記アライメント用基準板の前記基準マークを用いて得られた前記レチクルと前記基板アライメント用光学系の相対位置の値を補正する補正手段と、前記露光用パターン描画領域の照明と、前記レチクルアライメントマークの照明とを切り替えるように前記照明系を制御する制御系とを備えたことを特徴とする投影露光装置。
IPC (2)：
H01L 21/027 ,  G03F 9/00
FI (2)：
H01L 21/30 525 D ,  G03F 9/00 H
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (10)
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