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J-GLOBAL ID：200903080496844695

感放射線性混合物およびそれを用いるレリーフ構造体の製造方法

Inventor：
ディルク、フンホフ

About ディルク、フンホフ

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ラインホルト、シュヴァルム

About ラインホルト、シュヴァルム

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ホルスト、ビンダー

About ホルスト、ビンダー


Applicant, Patent owner：
ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト

About ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト


Agent (1)： 田代 烝治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994026495
Publication number (International publication number)：1995028247
Application date： Feb. 24, 1994
Publication date： Jan. 31, 1995
Summary：
【要約】【目的】 レリーフ構造体を生じるように加工するとき、改良されたコントラストを与える感放射線性混合物を提供すること。【構成】 (a1)酸不安定基を含有し、かつ酸の作用によりアルカリ性水溶液に溶解される水不溶性の有機結合剤、または(a2.1)水に溶解しないが、アルカリ性水溶液に溶解する重合体結合剤および(a2.2)水性アルカリ性現像液への溶解度が酸の作用により増加する有機化合物、および(b)化学放射線の作用下に酸を生じる有機化合物から本質的に成るポジティブ仕上げの感放射線性混合物であって、加えて、(c)ヒドロキシ-、アルコキシ-またはフェノキシ-陰イオンを有する、少なくとも1種の強塩基性有機化合物を含有することを特徴とする感放射線性混合物。
Claim (excerpt)：
(a1) 酸不安定基を含有し、かつ酸の作用によりアルカリ性水溶液に溶解される水不溶性の有機結合剤、または(a2.1) 水に溶解しないが、アルカリ性水溶液に溶解する重合体結合剤および(a2.2) 水性アルカリ性現像液への溶解度が酸の作用により増加する有機化合物、および(b) 化学放射線の作用下に酸を生じる有機化合物から本質的に成るポジティブ仕上げの感放射線性混合物であって、加えて、(c) ヒドロキシ-、アルコキシ-またはフェノキシ-陰イオンを有する、少なくとも1種の強塩基性有機化合物を含有することを特徴とする感放射線性混合物。
IPC (5)：
G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/032 ,  H01L 21/027
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
  • 特開平4-051243
  • ポジ型放射感応性混合物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-025751   Applicant：ヘキストジャパン株式会社
  • レジスト材料
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-285775   Applicant：日本電気株式会社
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