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J-GLOBAL ID:200903080731005221

電場または磁場印加によるマイクロチップ液液界面反応方法とそのためのマイクロチップ

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 西澤 利夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001136669
Publication number (International publication number):2002326963
Application date: May. 07, 2001
Publication date: Nov. 15, 2002
Summary:
【要約】【課題】 マイクロチップ上での液液界面反応をより高度に選択制御可能とする。【解決手段】 マイクロチップ流路における液液界面反応において、液液界面に電場または磁場を印加する。
Claim (excerpt):
マイクロチップ流路における液液界面反応において、液液界面に電場または磁場を印加することを特徴とする電場または磁場印加によるマイクロチップ液液界面反応方法。
IPC (3):
C07B 61/00 ,  B01J 19/00 321 ,  C07C245/08
FI (3):
C07B 61/00 D ,  B01J 19/00 321 ,  C07C245/08
F-Term (15):
4G075AA13 ,  4G075BA10 ,  4G075BD01 ,  4G075BD15 ,  4G075BD22 ,  4G075CA14 ,  4G075CA42 ,  4G075DA02 ,  4G075EB21 ,  4G075EC06 ,  4G075EC21 ,  4H006AA02 ,  4H006AC59 ,  4H006BA91 ,  4H006BC14
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (11)
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Cited by examiner (11)
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