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J-GLOBAL ID:200903080759714406

感放射線性樹脂組成物

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 福沢 俊明
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999289728
Publication number (International publication number):2001109155
Application date: Oct. 12, 1999
Publication date: Apr. 20, 2001
Summary:
【要約】【課題】 各種の放射線に有効に感応し、高感度であり、かつ密集ライン、孤立ライン、コンタクトホール等を含む種々のパターンで、とりわけライン系パターンにおいて、十分な解像度とフォーカス余裕度を有し、さらに膜面荒れの小さい微細パターンを形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 感放射線性樹脂組成物は、(A)2,4-ジフルオロベンゼンスルホン酸アニオン、4-トリフルオロメチルベンゼンスルホン酸アニオンまたは2-トリフルオロメチルベンゼンスルホン酸アニオンと硫黄またはヨウ素のオニウムカチオンとからなる芳香族スルホン酸オニウム塩化合物、および(B)4--ヒドロキシスチレン/4-t-ブトキシスチレン共重合体、4-ヒドロキシスチレン/4-(1’-エトキシエトキシ)スチレン共重合体等に代表される共重合体を含有する。
Claim (excerpt):
(A)下記一般式(1)で表される芳香族スルホン酸オニウム塩化合物、並びに(B)下記一般式(2)で表される繰返し単位と下記一般式(3)で表される繰返し単位とを有する共重合体(I)および/または下記一般式(2)で表される繰返し単位と下記一般式(4)で表される繰返し単位とを有する共重合体(II) を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。【化1】〔一般式(1)において、Z+ は硫黄またはヨウ素のオニウムカチオンを示し、X- は下記式(1-1)〜(1-3)のいずれかのアニオンを示す。〕【化2】【化3】〔一般式(2)において、R1 は水素原子またはメチル基を示し、R2 はハロゲン原子または炭素数1〜6の有機基を示し、iは0〜3の整数である。〕【化4】〔一般式(3)において、R3 は水素原子またはメチル基を示し、R4 は炭素数4〜10の3級アルキル基を示し、R5 はハロゲン原子または炭素数1〜6の有機基を示し、jは0〜3の整数である。〕【化5】〔一般式(4)において、R6 は水素原子またはメチル基を示し、R7 は水素原子または炭素数1〜6の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基を示し、R8は炭素数1〜6の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基を示し、R9 はハロゲン原子または炭素数1〜6の有機基を示し、kは0〜3の整数である。〕
IPC (5):
G03F 7/039 601 ,  C08K 5/42 ,  C08L 25/18 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/029
FI (5):
G03F 7/039 601 ,  C08K 5/42 ,  C08L 25/18 ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/029
F-Term (20):
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025CB16 ,  2H025FA12 ,  4J002BC111 ,  4J002BC121 ,  4J002EB106 ,  4J002EV296 ,  4J002FD156 ,  4J002GD00
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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