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J-GLOBAL ID:200903041244014210

フォトレジスト組成物、その方法及びそれらを含有してなる工業製品

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 佐伯 憲生
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999252064
Publication number (International publication number):2000122296
Application date: Aug. 04, 1999
Publication date: Apr. 28, 2000
Summary:
【要約】【課題】 本発明は貯蔵寿命(shelf life)およびリソグラフ特性が著しく改良された新規なフォトレジスト組成物に関する。【解決手段】 本発明は、ヒドロキシ基を有さない溶媒(例えば、非ハイドロキシリック溶媒)、樹脂バインダー及び当該溶媒に充分な溶解度を有するスルホニウム光酸発生化合物(photoacid generator compound)(PAG)を含有してなるフォトレジスト組成物を提供する。これらのレジストは非常に優れた貯蔵安定性を有する。例えば、長期間に亘って貯蔵された後においても感光速度(photospeed)がほとんど変化しない。
Claim (excerpt):
(1)光酸遊離基を含有する成分、(2)置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有してもよいアルキニル基、置換基を有してもよいヘテロアルキル基、置換基を有してもよいヘテロアルケニル基、又は置換基を有してもよいヘテロアルキニル基から選ばれる少なくとも2個の炭素原子を有する基の1個又はそれ以上で置換されているスルホニウム光酸発生化合物、及び、(3)非ハイドロキシリック溶媒、からなり、実質的にハイドロキシリック溶媒を含有しないフォトレジスト組成物。
IPC (3):
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027
FI (3):
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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