フォトレジスト組成物

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：佐伯憲生
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998281868
Publication number (International publication number)：1999167200
Application date： Aug. 28, 1998
Publication date： Jun. 22, 1999
Summary：

【要約】 (修正有)【解決手段】脱ブロッキングのために20Kcal/モル以上の活性化エネルギーを必要とする酸に不安定なブロッキング基を有する樹脂バインダー、光分解の際にハロゲン化硫酸を発生させることのできる光酸発生剤、および任意に塩基添加剤を含有するフォトレジスト組成物。【効果】高温の後露光焼成を含む工程においてハロゲン化スルホン酸発生剤を使用すると、線幅変動が実質的に軽減される。

Claim (excerpt)：

脱ブロッキングのために少なくとも20Kcal/モルの活性化エネルギーを必要とする酸に不安定なブロッキング基で置換されたアルカリ可溶性樹脂、並びに、350nm以下の波長で一定のパターンの活性化放射に露出されると光分解を受けて、強力な電子吸引基及び及び0を越えないpKa値を有するスルホン酸を生成する光酸発生化合物を含有してなるポジ型フォトレジスト組成物。

IPC (3)：

G03F 7/004 503 , G03F 7/039 601 , H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/004 503 A , G03F 7/039 601 , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (17)

感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-270332 Applicant：日本合成ゴム株式会社
レジスト材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-071337 Applicant：信越化学工業株式会社
新規オニウム塩およびそれを含有する感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-177743 Applicant：日本合成ゴム株式会社

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Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

ボルハルト・ショアー現代有機化学(上), 19991110, 第3版、上巻, p. 84

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