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J-GLOBAL ID：200903081356176222

処理装置および該装置における清浄エアの供給方法

Inventor：
立山 清久

About 立山 清久


Applicant, Patent owner：
東京エレクトロン株式会社

About 東京エレクトロン株式会社


Agent (1)： 大森 純一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998375585
Publication number (International publication number)：2000182949
Application date： Dec. 17, 1998
Publication date： Jun. 30, 2000
Summary：
【要約】【課題】必要な箇所のみにクリーンエアを供給でき、不要な処理装置を省いた場合に、ブロワやファン等にかかる余分な負荷を除去し、ランニングコストを低減する。【解決手段】被処理体に所定の処理を行う処理部ごとに対応させて、該処理部の上方にエア吹き出し部40を設け、また、処理部ごとに対応させて、該処理部の下方に設けたエア回収部43を設ける。エア吹き出し部40から直下に向けて吹き出されたクリーンエアは、当該装置内に設置された処理部を通過した後、エア吸引機構45による吸引力により、該エア吹き出し部40に対向するエア回収部43を通じて回収され、リターンダクト44を介してエア吹き出し部40に再度供給される。
Claim (excerpt)：
被処理体に所定の処理を行う複数の処理部と、前記各処理部に対応して、該処理部の上方に設けられ、清浄エアを直下に向けて吹き出すエア吹き出し部と、前記各処理部に対応して、該処理部の下方に、前記エア吹き出し部に対向して設けられ、エア吸引機構の吸引力により、リターンダクトを通じて前記エア吹き出し部にエアを再供給するため、処理部を通過したエアを回収するエア回収部と、を具備することを特徴とする処理装置。
IPC (3)：
H01L 21/027 ,  G02F 1/13 101 ,  H01L 21/02
FI (3)：
H01L 21/30 562 ,  G02F 1/13 101 ,  H01L 21/02 D
F-Term (10)：
2H088FA21 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H088MA20 ,  5F046CD01 ,  5F046CD05 ,  5F046CD06 ,  5F046JA07 ,  5F046JA08 ,  5F046JA22
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)
  • 連結式クリーン空間装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-096172   Applicant：松下電器産業株式会社
  • クリーンルーム
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-249529   Applicant：三菱電機株式会社
  • 特開平2-293554

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