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J-GLOBAL ID：200903081494860304

シロキサンポリマ皮膜形成方法および光導波路

Inventor： 金子 勝弘 ,  上野 由里子 ,  田中 香織 ,  仲井 剛 ,  新谷 真人 ,  阿部 真一 ,  富川 真佐夫
Applicant, Patent owner： 東レ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003421385
Publication number (International publication number)：2005181638
Application date： Dec. 18, 2003
Publication date： Jul. 07, 2005
Summary：

【課題】 耐クラック性に優れ、温度サイクル,湿中試験等に対する信頼性に優れたシロキサンポリマ皮膜およびそれを用いた光導波路を得る。 【解決手段】 基板上に、シラノール基を含有するシロキサンポリマ皮膜形成用塗液組成物を塗布し、シラノール基同士を脱水重合させることによってシロキサンポリマ皮膜を形成する第1の工程を行なった後に、シロキサンポリマ皮膜を酸溶液に浸漬することによってシロキサンポリマ皮膜中に残留したシラノール基の脱水重合反応を促進する第2の工程を行なうことを特徴とするシロキサンポリマ皮膜形成方法である。この形成方法によって得られるシロキサンポリマ皮膜およびこれを用いて製作される光導波路は、耐クラック性に優れ、温度サイクル,湿中試験等に対する信頼性に優れている。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

基板上に、シラノール基を含有するシロキサンポリマ皮膜形成用塗液組成物を塗布し、前記シラノール基同士を脱水重合させることによってシロキサンポリマ皮膜を形成する第1の工程を行なった後に、前記シロキサンポリマ皮膜を酸溶液に浸漬することによって前記シロキサンポリマ皮膜中に残留した前記シラノール基の脱水重合反応を促進する第2の工程を行なうことを特徴とするシロキサンポリマ皮膜形成方法。

IPC (3)：

G02B6/12 ,  B05D7/24 ,  C09D183/04

FI (3)：

G02B6/12 N ,  B05D7/24 302Y ,  C09D183/04

F-Term (59)：

2H047PA28 ,  2H047QA05 ,  4D075BB26Y ,  4D075BB26Z ,  4D075BB64Y ,  4D075BB64Z ,  4D075BB76Y ,  4D075BB93Y ,  4D075BB93Z ,  4D075CA03 ,  4D075CA13 ,  4D075DA06 ,  4D075DB13 ,  4D075DB14 ,  4D075DB31 ,  4D075DB53 ,  4D075DC24 ,  4D075EA07 ,  4D075EB43 ,  4D075EB47 ,  4J038DL021 ,  4J038DL031 ,  4J038DL131 ,  4J038HA416 ,  4J246AA03 ,  4J246AA18 ,  4J246AB01 ,  4J246AB11 ,  4J246AB12 ,  4J246AB13 ,  4J246BA14X ,  4J246BA310 ,  4J246BB010 ,  4J246BB011 ,  4J246BB012 ,  4J246CA13X ,  4J246CA138 ,  4J246CA24X ,  4J246CA248 ,  4J246CA27X ,  4J246CA278 ,  4J246CA348 ,  4J246CA668 ,  4J246FA022 ,  4J246FA071 ,  4J246FA101 ,  4J246FB031 ,  4J246FB032 ,  4J246FB041 ,  4J246FB051 ,  4J246FB052 ,  4J246FB081 ,  4J246FB091 ,  4J246FB221 ,  4J246GA01 ,  4J246GA02 ,  4J246GB04 ,  4J246GC02 ,  4J246HA14

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 絶縁膜の形成方法および半導体装置の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-366937   Applicant：株式会社東芝, ジェイエスアール株式会社
• 特開平2-266525号公報
  
• 特開平2-35729号公報
  

Cited by examiner (5)

• 光学材料形成用塗液組成物および光学材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-032497   Applicant：東レ株式会社
• ポリマ膜中の脱水酸基化処理方法及びそれを用いた光導波路
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-067284   Applicant：日立電線株式会社
• 光導波路形成用放射線硬化性組成物および光導波路
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-383161   Applicant：ジェイエスアール株式会社
• 光導波路基板
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-339981   Applicant：京セラ株式会社
• 金属含有シロキサン系ポリマおよび光導波路
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-209772   Applicant：京セラ株式会社