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J-GLOBAL ID：200903081788406245

光学異方性高分子フィルム、偏光フィルム、それらの製造方法、及びその用途

Inventor：
西川 尚之

About 西川 尚之

, 
加藤 考浩

About 加藤 考浩


Applicant, Patent owner：
富士フイルム株式会社

About 富士フイルム株式会社


Agent (1)： 特許業務法人特許事務所サイクス
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006193271
Publication number (International publication number)：2007114739
Application date： Jul. 13, 2006
Publication date： May. 10, 2007
Summary：
【課題】 製造適性に優れ、かつ安定性が改善された光学異方性高分子フィルム及びその製造方法を提供する。【解決手段】 少なくとも一種の光反応性化合物と少なくとも一種の非液晶性高分子とを含有する高分子フィルムに光照射することにより光学異方性を発現又は変化させて得られる光学異方性高分子フィルムである。また、少なくとも一種の光反応性化合物と少なくとも一種の非液晶性高分子からなる高分子フィルムに、光を照射して、該高分子フィルムの光学異方性を制御する光照射工程を含む光学異方性高分子フィルムの製造方法である。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
少なくとも一種の光反応性化合物と少なくとも一種の非液晶性高分子とを含む高分子フィルムに光照射し、光照射によって光学異方性を発現又は変化させて得られる光学異方性高分子フィルム。
IPC (2)：
G02B 5/30 ,  G02F 1/133
FI (3)：
G02B5/30 ,  G02F1/13363 ,  G02F1/1335 510
F-Term (23)：
2H049BA02 ,  2H049BA06 ,  2H049BA42 ,  2H049BB03 ,  2H049BB42 ,  2H049BB43 ,  2H049BB46 ,  2H049BB48 ,  2H049BB49 ,  2H049BB66 ,  2H049BC05 ,  2H049BC22 ,  2H091FA02 ,  2H091FA08 ,  2H091FA11 ,  2H091FB04 ,  2H091FB12 ,  2H091FC01 ,  2H091FC08 ,  2H091FC09 ,  2H091FC23 ,  2H091LA09 ,  2H091LA12
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (7)
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Cited by examiner (8)
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