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J-GLOBAL ID:200903082290767450

半導体ウエハー固定用の粘着剤ならびに加工方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000013070
Publication number (International publication number):2001200234
Application date: Jan. 21, 2000
Publication date: Jul. 24, 2001
Summary:
【要約】【課題】 半導体ウェハーを粘着剤を用いて固定し分割加工する際に、加工時は粘着力が強く固定しやすく、かつ分割加工後は粘着力が弱く薄利し離し易いようにすること。【解決手段】粘着剤にアジド基を含有する化合物を含ませることにより、紫外線を照射して分解ガスを発生させ、半導体ウェハーが粘着剤から剥離し易いようにした。
Claim (excerpt):
半導体ウエハーの加工時にウェハーを固定するための粘着剤であって、ガス発生剤を含むことを特徴とする粘着剤。
IPC (5):
C09J201/00 ,  C09J 7/00 ,  C09J 11/04 ,  C09J 11/06 ,  H01L 21/301
FI (7):
C09J201/00 ,  C09J 7/00 ,  C09J 11/04 ,  C09J 11/06 ,  H01L 21/78 P ,  H01L 21/78 M ,  H01L 21/78 Q
F-Term (17):
4J004AA17 ,  4J004AA18 ,  4J004AB01 ,  4J004AB07 ,  4J004BA02 ,  4J004FA05 ,  4J004FA08 ,  4J040DF041 ,  4J040HA206 ,  4J040HC13 ,  4J040JA09 ,  4J040JB08 ,  4J040JB09 ,  4J040KA13 ,  4J040LA06 ,  4J040NA20 ,  4J040PA42
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
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