感放射線性樹脂組成物

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：福沢俊明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001108824
Publication number (International publication number)：2002072484
Application date： Apr. 06, 2001
Publication date： Mar. 12, 2002
Summary：

【要約】【課題】放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れるのみならず、微細加工時に現像欠陥を生じることがなく、半導体素子を高い歩留りで製造することができる新規な感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 (A)下記一般式(1)で表される構造を有する酸解離性基含有樹脂、並びに(B)感放射線性酸発生剤を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。【化1】〔一般式(1)において、R1 は水素原子、1価の酸解離性基、酸解離性基をもたないアルキル基または酸解離性基をもたないアルキルカルボニル基を示し、X1 は炭素数1〜4の直鎖状もしくは分岐状のフッ素化アルキル基を示し、R2は水素原子、直鎖状もしくは分岐状のアルキル基または直鎖状もしくは分岐状のフッ素化アルキル基を示す。〕

Claim (excerpt)：

(A)下記一般式(1)で表される構造を有する酸解離性基含有樹脂、並びに(B)感放射線性酸発生剤を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。【化1】〔一般式(1)において、R1 は水素原子、1価の酸解離性基、酸解離性基をもたない炭素数1〜6のアルキル基または酸解離性基をもたない炭素数2〜7のアルキルカルボニル基を示し、X1 は炭素数1〜4の直鎖状もしくは分岐状のフッ素化アルキル基を示し、R2 は水素原子、炭素数1〜10の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基または炭素数1〜10の直鎖状もしくは分岐状のフッ素化アルキル基を示す。〕

IPC (6)：

G03F 7/039 601 , C08K 5/00 , C08L 33/06 , C08L 35/00 , C08L 45/00 , H01L 21/027

FI (6)：

G03F 7/039 601 , C08K 5/00 , C08L 33/06 , C08L 35/00 , C08L 45/00 , H01L 21/30 502 R

F-Term (22)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BG00 , 2H025FA03 , 2H025FA12 , 2H025FA17 , 4J002BK001 , 4J002EH058 , 4J002EH138 , 4J002EN047 , 4J002EN137 , 4J002ER006 , 4J002EU077 , 4J002EU117 , 4J002EV296 , 4J002GP03

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-159834 Applicant：信越化学工業株式会社
レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-117209 Applicant：旭硝子株式会社
157nmリソグラフィー用のレジスト材料
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2001-562262 Applicant：マサチューセッツ・インスティテュート・オブ・テクノロジー

Show all

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

Return to Previous Page